Polishing抛光布是材料机械制样的zui后一道工序。为了消除精磨引起的变形，需选用更为柔软的平面，配合更小粒径的抛光布液体。贺利氏Heraeus Kulzer Technocloth抛光布。

 

Polishing抛光布：

   抛光布是材料机械制样的zui后一道工序。为了消除精磨引起的变形，需选用更为柔软的平面，配合更小粒径的抛光布液体。

 

   贺利氏古莎抛光布既可以用于自动磨抛也可用于手动磨抛，拥有与目前市场上主流磨抛设备支持盘尺寸匹配的抛光布布型号。为便于客户使用，贺利氏古莎Technocloth抛光布有三种固定模式：自粘型，静电吸附型和磁性吸附型。*的三层结构保证了抛光布工作时*平整度。同时也使得抛光布本身在FAS®固定系统盘上快速、简单的固定位置。

 

自粘型：

   自粘型抛光布具有三层结构：表面磨抛层、超薄硬背基层和胶粘层。贺利氏Technocloth*的三层结构保证了抛光布工作时*平整度。同时也使得抛光布本身在FAS®固定系统盘上快速、简单的固定位置。

 

静电吸附型：

   静电吸附型抛光布同样具有三层结构：表面磨抛层、超薄硬背基层和XLAM®层。使用时，静电吸附型抛光布与XLAM®固定系统盘配合使用，快速、简单、平整度更佳。

 

磁性吸附型：

   磁性吸附型抛光布也是两层结构：表面磨抛层和柔软的Magnetic层。磁性吸附型抛光布避免了抛光布出现*性折痕和操作时出现伤口。与FMS®磁性固定系统盘配合使用，操作简单、方便。