全反射X射线荧光(TXRF)前处理方式的考量
时间:2024-02-21 阅读:840
全反射X射线荧光(TXRF)是一种微量分析方法,特别适用于样品量小的样品,一次分析所需样品量,固体材料可达μg级,液体样品则通常少于100μL。
TXRF受自身原理限制,样品于玻片上必须满足薄层的要求,以消除普遍存在于EDXRF中的基体影响。因此,其样品量明显减少,且前处理方式也有着明显不同。
通常,可根据样品形态选择合适的前处理方式,且可能需要考虑如下的几点要求:
a. 于样品玻片上形成均匀的薄层;
b. 待测元素及内标元素均匀分布;
c. 待测元素的富集;
d. 待测元素与干扰元素的分离;
e. 阻止样品溶液扩散;
基于以上因素,TXRF所采用的前处理既继承了部分常见无机元素检测中的方法,又发展出了具有自身特色的前处理方式,如下图: