对多种气体的快速监测、报警、极低浓度的测量、宽广的测量区域、高灵敏的响应是半导体工业的要求之一。深紫外光刻工艺特别关注氨、胺、N-甲基吡咯烷酮NMP、酸等的浓度测量。当这些气体与化学放大的光刻胶发生反应时，半导体器件的质量将受到深刻影响。传统和古老的方法大多采用间接测量和分析方法。这些方法包括冲击过滤法、离子色谱法和化学荧光法，这些方法分析速度太慢，操作太复杂，价格昂贵，测量结果不准确。

　　

　　AMC空气分析证明，深紫外光刻工艺深受多种微污染物的影响，对许多微污染物特别敏感，如氨气或酸性气体，会对半导体生产带来危害。虽然随着深紫外耐腐蚀材料技术的发展，长期连续的实时监测已经减少，事实上，空气分子污染物（AMC）的实时测量对产品的质量非常重要。
 

　　

　　AMC空气分析监测还集成了一个多点监测系统，可以将气体依次抽到分析仪或传感器上，并读出测量结果。嵌入式报警、报告和分析软件由在半导体行业有多年经验的工程师集体开发。模拟模块可以输出4-6台分析仪或传感器的数据。每台分析仪都配备了一台内置计算机，可以存储和输出数据。它还支持远程网络控制，远程操作可以实现多层次的管理权限控制和操作。

　　

　　AMC空气分析仪基于CEAS（腔体增强吸收光谱）技术，仪器使用简单，操作方便。所有部件（包括内置真空泵、键盘、鼠标、显示器等）在几分钟内就可以开始记录数据。其他大气中的水蒸气、CO2、O2、甲烷等不会对HCL、HF、NH3等造成交叉干扰。内置计算机可将大量数据存储到内置硬盘，通过数字接口或模拟接口传输数据，通过互联网远程存储或记录数据，高质量的数据库适用于苛刻的半导体微量气体应用。