等离子清洗机中常用的工艺气体包括氧气、氩气、氮气、压缩空气、氢气、四氟化碳等。它利用气体电离产生的等离子体对工件表面进行处理。不同的工艺气体会被用来达到最佳的处理效果，那么等离子清洗机中常用的工艺气体如何选择呢？

　　氧气是等离子清洗常用的活性气体，属于物理+化学处理方式。电离后产生的离子可以物理轰击表面，形成粗糙的表面。同时，高活性氧离子可以与断裂的分子链发生化学反应，形成活性基团的亲水表面，从而达到表面活化的目的。

　　有机污染物的元素在断键后会与高活性氧离子发生化学反应，形成一氧化碳、二氧化碳、H2O等分子结构。从表面分离，从而达到表面清洁的目的。

　　氧主要用于高分子材料的表面活化和有机污染物的去除，但不适合易氧化的金属表面。真空等离子体中的氧等离子体为浅蓝色，在局部放电条件下类似白色。放电环境光线明亮，肉眼观察真空室可能没有放电。

　　产品结构

　　真空等离子体表面处理系统主要包括三个部分：真空腔及真空系统，等离子体发生器，控制系统。

　　（A）真空腔及真空发生系统

　　真空腔固定于机柜框架内，左右两侧为可拆门，因此内部的真空腔及真空系统的维修是极方便的。真空发生系统由波纹管、KF接头、真空泵以及油雾过滤器组成，核心部件真空泵（真空泵组）。

　　（B）等离子体发生器

　　等离子体发生器在20Pa-100Pa间给电极板施加电压，产生低温等离子体。利用高频转换技术形成高频电压加到电极板上，当真空腔内达到一定真空度时，产生等离子体放电现象，放电后电路会自动调节电压到适当值，保证电路正常稳定放电。

　　（C）控制系统

　　本系统使用MCGS触摸屏、西门子PLC、中文界面。设备的工艺流程控制：真空泵启动->挡板阀开启->达到设定的真空度->通入工艺气体->RF放电->工作时间到破真空->工作完成。设备分自动和手动两种方式。