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半导体领域仪器设备：等离子清洗机、紫外臭氧清洗机、匀胶机、烤胶机等。 理化实验室仪器设备：酸蒸逆流清洗器、真空赶酸系统、酸纯化器、智能消解仪、恒温电热板等
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SPB5/plusRIE反应离子刻蚀机
CIF 推出 RIE 反应离子刻蚀机，采用 RIE 反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介质刻蚀、硅刻蚀、金属刻蚀等方面研究。使用成本低，性价比高，易维护，处理快速高效。RIE反应离子刻蚀机适用于所有的基材及复杂的几何构形进行 RIE 反应离子刻蚀。 参考价面议 -
CPC15/35/80/120/150CIF生产型等离子清洗机
CIF生产型等离子清洗机
CIF 推出的中试生产型等离子清洗机是为研发型客户和工业级客 户而设计的等离子体表面处理设备。配置丰富， 且真空腔体里可分层， 适合大多数生产场景清洗，活化、刻蚀等应用。设备可在严苛环境下 稳定运行，产品性能稳定，样品处理重复性、一致性好。 参考价面议 -
CPC-10/PlusCIF中试型等离子清洗机CPC-10系列
CIF推出全新一代 CPC-10系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。 参考价面议 -
CPC-G/PlusCIF实验室型等离子清洗机
CIF推出全新一代 CPC-G系列实验室型等离子体清洗设备， 改变传统等离子体清洗设备设计理念。CIF实验室型等离子清洗机具有较大的腔体尺寸和有效样 品处理面积， 使用成本低， 性价比高， 处理快速高效， 特别适合于大学， 科研院所和光电企业实验室小批量中试生产。 参考价面议 -
CPC-F/PlusCIF实验室型等离子清洗机CPC-F系列
CIF 推出的新一代科研型等离子清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。 CIF实验室型等离子清洗机CPC-F系列性能稳定，操作简单方便，易维护。 参考价面议 -
DS40-260/360带酸气回收石墨消解仪
石墨电热消解仪 密闭湿法石墨消解仪是一种专用于对各类分析测试样品作加热预处理的恒温装置，采用微机控制，带无线蓝牙接口，操作人员可用PC、PDA进行远距离联网控制。实验室原有的通风橱无需任何钻孔等改造措施。具有结构简单、性能可靠、操作灵活的特点，多重防腐蚀设计适应各种恶劣环境，可广泛用于生物、化学、环保等行业的分析测试场合。 参考价面议 -
CIF实验室注射泵Squirt Sampling Pump
CIF为科研实验专门推出一种实验室注射泵，高精度微量流体传输注射泵-SP-2型注射泵。它采用高强度航空轴承、优异的控制系统和精密的机械结构，使用寿命更长，精度更高。 参考价面议 -
UVO-N臭氧中和器
CIF臭氧中和器（UVO-N）是紫外臭氧清洗机配套的臭氧去除设备。主要是通过纳米级金属氧化物催化剂分解臭氧，以及利用臭氧的不稳定性加速臭氧快速流动从而达到快速去除臭氧的目的。 参考价面议 -
CPV-GCIF等离子体汽化接枝仪
CIF等离子体汽化接枝仪（CPV-G）为等离子体表面处理仪的配套设备，主要用于将液态原料汽化并以一定的流量输入等离子体表面处理仪的反应腔内，以进行材料表面的接枝和沉积，适用于各种等离子处理设备。 参考价面议 -
CIF-VSCIF透射电镜样品杆存储仪
CIF透射电镜样品杆存储仪
CIF 透射电镜（TEM）样品杆存储仪采用无油隔膜泵，通过抽真空产生100 Pa恒定洁净无污染的真空环境，特别适用于TEM透射电镜样品杆的日常真空储存或水汽去除，简单方便实用。 参考价面议 -
UVO13紫外臭氧清洗机
紫外臭氧清洗机（UVOzone Cleaner, UVO），是一种简单，经济，快速高效的材料表面清洗设备，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）表面上的有机污染物。 参考价面议 -
UV Ozone Cleaner-ProCleanbioforce-UV Ozone Cleaner
bioforce-UV Ozone Cleaner主要有两款型号：UV Ozone Cleaner-ProCleaner™ Plus、UV Ozone Cleaner-ProCleaner™，主要用于去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物。 参考价面议