美国OAI INSTRUMENTS光刻机6000规格

光刻方式：接近式，软，硬，真空接触式

基底尺寸：2-12寸晶圆或者zui大200mm方形

曝光分辨率：

真空接触:0.5-0.8um

硬接触:0.8-1.0um

软接触:1.0-3.0um

接近式(20um 间隙):3.0um

曝光均匀性：优于±3%

对准精度：顶面0.5um，底面1.0um（选件）

产量：180片/小时zui大

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