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如何克服因地面振动影响光刻系统的图案质量?

时间:2021-02-05      阅读:1317

如何克服因地面振动影响光刻系统的图案质量

振动对高级浸没式光刻的影响 

 

没有使用STACIS®

在原基座的弹性体或刚性版本上获得jia模式

 

使用STACIS®

STACIS主动隔振实现的模式

   

        所示的45纳米线宽测试图形是由Amphibian Systems公司生产的*浸入式光刻系统生产的,安装在德克萨斯州*的SEMATECH公司。图像之间的差异是由于地震振动对光刻过程的影响。所显示的图像是使用扫描电子显微镜获得的。

  

        该工具初安装在钢和混凝土基座上,基座采用钢支撑结构,其中包含商业弹性体隔振垫。这个基座没有达到工具要求的振动标准,模式质量很差。

        为了减少振动,弹性体垫块被有效地用金属垫片短路,从而导致更刚性、非共振结构,但这几乎没有改善。振动标准不符合任何版本的基座和模式,质量仍然很差。

        基座支撑结构被移除,并安装了STACIS®主动压电消振系统STACIS基座被直接放置在现有的底座下面。将工具支撑在STACIS上,显著降低了整体地震振动水平,并达到了制造商的地面振动规范。更重要的是,STACIS在模式质量方面提供了显著的改进。

 

不同配置的振动测量。工具规格:0.125 mils /s RMS。垂直轴数据显示。

绿色:弹性体减振

白色:短路弹性体减振

蓝色:STACIS减振        

 *Sematech提供的照片、图像和振动数据。

 

关于TMC☆

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      TMC产品让光子学、半导体制造、生命科学、药物发现和纳米技术等领域的超精密研究、测量和制造成为可能。我们的产品是在*的、垂直一体化的制造设施中设计和制造的,并以提供优质服务的客户承诺为后盾。
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