TT-29-LZ-Ⅱ离子溅射仪

产品介绍： 
TT-29-LZ-Ⅱ离子溅射仪是一种小型镀膜装置，可用作扫描电镜、电子探针等仪器进行试样制备，是开展教学科研实验的*仪器。 
镀膜原理与结构： 
TT-29-LZ-Ⅱ离子溅射仪镀膜基本原理是基于荷能正离子轰击靶电极产生溅射现象，靶被溅射出来的中性原子沉淀于基台上样品表面成膜，形成导电层。 
该离子溅射仪为二极结构，以基台和样品架为正电极与仪器外壳相连并接地，溅射靶电极为负电极（加负高压），它们被安装在玻璃罩的真空腔内，当腔内达到一定真空度，在负高压的作用下发生辉光放电产生等离子体，其中正离子在电场加速下，获得足够能量轰击负电极上的靶面，靶面被溅射原子沉淀于基台的样品表面形成导电膜，以供上述仪器分析。 
技术参数： 
1、型号：TT-29-LZ-Ⅱ 
1、真空腔：￠150×12硼酸硅质玻璃 
2、溅射靶尺寸：￠55×0.3 
3、基台：￠506-8个样品 
4、极间距调节范围20-40mm 
5、溅射电压：-2000V-0DC连续可调 
溅射电流0-30mA 
6、定时器：0-99分数字显示 
7、真空测量：1×105-1.0×10-1pa数字显示，单片机控制，数字显示，具有真空保护锁设置。 
8、控制系统：单片机控制，完成真空自动测量、显示、定时器功能以及自动完成镀膜程序。 
9、真空泵：2L/S二级旋片式直联机械泵，极限真空度6×10-1pa 
10、充气阀：金属微调针型阀保护气体99.9%纯度氩气（推荐） 
11、外形尺寸：长354mm×高216mm×深340mm 
12、电源：AC220V50HZ 
特点： 
1、人性化设计，整体性好； 
2、单片机控制，操作方便简洁； 
3、用户可根据实验需要自由设置溅射操作的工艺参数，使用灵活、方便； 
4、仪器有真空锁保护设置，使仪器可靠性安全性好；