低温恒温反应浴常应用于对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。并且对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等起到很大作用。

 

　　提供-40℃~105℃温度范围内的高、低恒温液体，以满足用高、低温做反应的恒温仪器的需要。

 

　　特别适用与化学反应釜、发酵罐、旋转蒸发器、电子显微镜、阿贝折先仪、蒸发皿、生物制药反应器等实验设备配套使用。

 

　　*内循环和外循环泵系统，内循环使仪器温度均匀恒定，外循环泵输出16升/分~18升/分在流量高、低温液体。8升~40升的工作槽容积内还可放入装有生化试剂或被测样品的各种容器，直接进行高低温试验或测试，实现一机多用

 

　　低温恒温循环器的主要特点

 

　　●风冷式全封闭制冷压缩机,降温速度快。

 

　　●微机智能控制,温度温度。

 

　　●数显分辨率0.1℃或0.01℃，具有温度测量值偏差修正功能。

 

　　●温度超温保护,自动切断电源并报警。

 

　　●制冷系统过热、过流自动保护。