该设备是一种台式灯加热设备，可以对最大 50 平方毫米的样品进行热处理。
自 MILA-5000 系列台式灯加热器作为样品尺寸达 20 平方毫米的加热装置推出以来，已被许多客户使用。 50 平方毫米，同时保持集成加热炉、腔室和温度控制器的紧凑型机身。
Si晶片和化合物晶片的高速加热装置介绍
时间：2022-07-19 阅读：536
Si晶片和化合物晶片的高速加热装置介绍
台式灯加热器 MILA-5050
用途
Si晶片和化合物晶片的高速加热
光学CVD基板加热等电子材料的高速加热
玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。
热循环测试
金属材料的退火
涂膜耐热性评价
有机材料和树脂的加热和干燥
特征
热处理可达到 50 平方毫米的样品尺寸
最高温度1200℃
可高速加热和冷却的红外金像 台式加热装置，集成加热室和温度控制器
您可以轻松设置温度程序并从个人计算机输入外部信号。
可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。
规格
| 温度范围 | 室温～1200℃ |
|---|---|
| 升温速率 | 50℃/秒 |
| 样品尺寸 | 正方形 50 或 φ 50 毫米 x 厚度 5 毫米 |
| 加热气氛 | 在真空中，在各种气流中 |
* 真空排气装置是一个选项
* 加热温度因被加热材料的红外反射/吸收、热容量和材料而异。
测量数据
① 500℃，Δt=3.2℃
② 800℃，Δt=0.6℃
③ 1000℃，Δt=4.2℃
④ 1200℃，Δt=2.6℃