PDF-4 Axiom 2025PDF-4 Axiom -精简版PDF-5+数据库
PDF-4 Axiom -精简版PDF-5+数据库,所收录物相的标准衍射卡片涵盖约多种科学研究领域,如电池材料、热电材料、超导材料、金属材料、陶瓷材料、矿物材料、金属合金、药物、聚合物等。 参考价¥200000PDF-5+ 2025数据库PDF-5+2025
PDF-5+2025版数据库,所收录物相的标准衍射卡片涵盖约50多种科学研究领域,如电池材料,热电材料,超导材料,金属材料,陶瓷材料,矿物材料,金属合金,药物,聚合物等. 参考价¥200000PHI Genesis 900PHI 硬X射线光电子能谱仪
PHI 硬X射线光电子能谱仪,下一代透明发光材料使用直径约为10nm~50nm 的纳米量子点(QDs),结合使用 XPS(Al Ka X射线)和 HAXPES(Cr Ka x射线)对同一微观特征区域进行分析,可以对 QDs 进行详细的深度结构分析。 参考价面议PHI 710俄歇电子能谱仪
PHI公司的PHI 710俄歇电子能谱仪是一台设计高性能的俄歇电子能谱(AES)仪器。该设备能分析纳米级特征区域,超薄薄膜和多层结构表界面的元素态和化学态信息。 参考价面议PHI nano TOF3+飞行时间二次离子质谱仪
飞行时间二次离子质谱仪PHI nano TOF3+,先进的多功能TOF-SIMS具有更强大的微区分析能力,更加出色的分析精度 参考价面议PHI Genesis 500PHI X射线光电子能谱仪
PHI X射线光电子能谱仪 提供了一种全新的用户体验,仪器高性能、全自动化、简单易操作。C60 40C60-40 离子源系统
C60-40 离子源系统 是目前性能较高的C60光束,具有300纳米的光斑尺寸和高达1毫安的束流。从生物医学应用到聚合物科学和冶金,C60-40都可以做到这一点。得益于与其他C60离子束相同的均匀溅射,但由于更高的束能量,C60-40具有难以置信的精细斑点和更高的蚀刻率,是一种用于广泛应用的极其强大的分析工具。 参考价面议C60 20C60-20 离子源系统
lonoptika公司的C60-20 离子源系统是一种高性能的20kV离子束系统,用于高化学复杂性样品的SIMS分析。C60-20是一种功能强大,成本效益高的分析离子束系统,可以较大限度地利用SIMS分析。 参考价面议C60 20SC60-20S 离子源系统
C60-20S 离子源系统虽然所有离子束都会溅射或蚀刻,但我们的一些系统的表面是专为高效和快速溅射而设计的。溅射光束有三个特点:高电流、大光斑尺寸和宽视场。这些特性的结合意味着它们可以在大面积上尽快输送大剂量的离子,以优化蚀刻速率。 参考价面议GCIB 10SGCIB-10S 离子源系统
GCIB-10S 离子源系统是一种高性能10千伏气体团簇离子束,用于快速、低损伤溅射和更高质量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能,包括实时集群大小测量和内置样本电流成像系统,以帮助您充分利用实验。 参考价面议GCIB 40GCIB-40 离子源系统
GCIB-40 离子源系统是一种40 kV气体团簇离子束,产生团簇离子聚焦束,用于需要对分子离子敏感的分析应用。GCIB在较大程度地减少碎片和从表面去除完整分子方面具有单独的的能力。在40千伏电压下工作的GCIB 40提供了优异的电离产率,进一步增强了分子信号。 参考价面议GCIB 70GCIB-70 离子源系统
GCIB-70 离子源系统是一种70 kV高性能气体团簇离子束,可产生高度聚焦的团簇离子束,用于高分辨率成像SIM,具有没有可以比较的的灵敏度。在SIMS中使用气体团簇束的好处现在已得到充分证实;高质量团簇在溅射有机、生物和聚合物材料时非常有效,可以产生高产量的完整分子离子。 参考价面议