法国KLOE公司在光刻方面有着丰富的经验，其研发的UV- KUB微流控芯片光刻机/曝光机系列光刻机是一种基于UV LED的曝光机系统，结构紧凑，可以直接放置在实验台上，能够处理大直径4英寸的晶圆，兼容硬接触（接触式）或者软接触（接近式）工艺，可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要预热，也不需要单独的冷却单元。另外，UV-KUB系列*的设计，保证了光源的准直性和均匀性，其小分辨率可达2μm，大发散角小于2°