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仪器介绍 | 徕卡EM TIC 3X三离子束研磨仪

时间:2024-11-25      阅读:112



徕卡三离子束研磨仪

Leica EM TIC 3X

使用传统磨抛技术时,样品受到形变或机械损伤的可能性,会掩盖样品内部真实的结构信息,而针对这一问题,离子束研磨技术利用氩离子轰击的方式可获得高质量切割截面或抛光平面,避免机械损伤,获得适宜于扫描电子显微镜(SEM)分析和原子力显微镜(AFM)检测的高质量样品表面。

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01

灵活装配系统

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徕卡EM TIC 3X三离子束研磨仪可以灵活选择多种样品台,满足个性化应用需求。

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截面切割

标准样品台:用于常规样品制备以及对制备获得的平整截面做衬度增强作用(离子束刻蚀),有效加工区域达4×1 mm,获得大面积的无应力损伤高质量截面。

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平面抛光

旋转样品台:用于对已经机械抛光的样品表面进行离子束平面抛光,去除机械磨抛产生的涂抹效应和细小划痕等假象,暴露样品内部的真实结构。


在离子抛光过程中,样品可以旋转或摆动,同时样品可横向移动,最大可获得Ø25 mm的研磨区域。小角度摆动模式可应对大尺寸样品的平面抛光。

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高通量制样

三样品台:用于高通量制样,可同时放入三个样品,一次运行完成样品制备。

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冷冻制样

冷冻样品台:在低温环境下进行离子切割,针对特殊的热敏感型样品,如聚合物、橡胶、生物材料等制备获得高质量结果。温度控制范围+30°C ~ -160°C,带25 L液氮罐,自动泵取液氮。

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02

散焦鞍式离子枪

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徕卡三离子束研磨仪配备三把散焦鞍式离子枪。非聚焦离子源能量温和,不会导致局部温度过高带来热损伤,同时在应对复杂样品,如复合材料样品时,表现得更具优势。三把离子枪多角度轰击,获得加工面积更大,效率更高,且避免产生窗帘效应。

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03

衬度增强作用

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在标准样品台的离子切割之后,无需取下样品,用同样的样品载台在低电压下即可对样品进行衬度增强作用,可以强化样品内不同相之间的拓扑结构(如晶界)。

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04

观察系统

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徕卡采用体视显微镜M系列,M80型体视显微镜,采用平行光路设计,视觉无疲劳;带有Ergo-Wedge人体工学设计,肩颈背部无疲劳。徕卡EM TIC 3X配套的体视显微镜可用于样品定位校准和样品处理过程的观察,同时可作为手工处理样品时或装载样品时的观察工具。

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05

全套制样流程

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提供样品制备和售后技术服务的全套解决方案。在使用徕卡EM TIC 3X之前,可以使用徕卡EM TXP对目标区域进行精准定位的表面处理,可对样品进行切割及抛光等。在经过离子束加工后,样品可被转移进入后续步骤,如进入徕卡EM ACE600进行镀膜或SEM检测。

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徕卡LNT包括超薄切片、组织处理、高压冷冻、镀膜、临界点干燥、机械研磨抛光、离子束研磨等各类技术手段。适用于TEM/SEM/FIB/LM/AFM样品制备。目前领拓仪器是徕卡LNT的华南、西南授权代理商,为透射电镜/扫描电镜/工业材料样品提供全套样品制备服务。



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