安捷伦Agilent TwisTorr 804 FS涡轮分子泵

安捷伦Agilent TwisTorr 804 FS涡轮分子泵

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2019-01-02 10:30:06
417
属性:
产地类别:进口;产品类型:有油泵;价格区间:5万-10万;仪器种类:分子泵;
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产品属性
产地类别
进口
产品类型
有油泵
价格区间
5万-10万
仪器种类
分子泵
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杭州景程仪器有限公司

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产品简介

安捷伦Agilent TwisTorr 804 FS涡轮分子泵采用 TwisTorr 拖动技术和安捷伦悬浮轴承,具有高性能、高可靠性及经济性。TwisTorr 拖动技术对小分子气体(如氢气和氦气)能提供高压缩比,从而实现大抽气量和高前级耐压,进而能使用更经济实惠、更小型的前级泵。

详细介绍

安捷伦Agilent TwisTorr 804 FS涡轮分子泵采用 TwisTorr 拖动技术和安捷伦悬浮轴承,具有高性能、高可靠性及经济性。TwisTorr 拖动技术对小分子气体(如氢气和氦气)能提供高压缩比,从而实现大抽气量和高前级耐压,进而能使用更经济实惠、更小型的前级泵。该技术使得转子能采用紧凑的设计,变得高效节能,并能保持较低的工作温度。安捷伦悬浮轴承系统降低了噪音和振动,并能保证优秀的轴承工作条件,从而能延长工作寿命,超大程度减少系统停机时间,并能确保长时间稳定的抽气性能。TwisTorr 804 FS 泵独有的轴承和干式润滑剂设计,使得泵无需泵油和维护,能够以任意方向安装。可选择一体式控制器或机架控制器。

 

特性:

1.创新的 TwisTorr 技术 — 对小分子气体的高压缩比实现了高性能和最小的系统占用空间。

2.高前级耐压 — 允许使用更小的前级泵,从而降低了系统成本和尺寸。

3.安捷伦悬浮轴承系统 — 低振动、低噪音和游戏轴承工作条件可延长泵的使用寿命,从而实现使用维护成本优化,超大程度减少系统停机时间,并保证长时间稳定的抽气性能。

4.独有的轴承和干式润滑剂 — 免维护、免油,实现任意角度安装。

5.“三维”泵控制软件使灵活性、速度和简便性达到大化,可在泵的操作条件下达到优秀通量和压缩性能。

 

典型涡轮泵应用:
安捷伦涡轮分子泵包括集成泵组和多流路泵,其设计旨在实际应用中达到优秀性能。泵的紧凑型设计满足工业中的严苛空间要求。涡旋分子泵几乎不需要维护,并可避免错误使用。无论您是终端用户还是原始设备制造商,安捷伦均可针对您的应用为您提供帮助和支持,或定制适合您的需求的系统。 

 

安捷伦Agilent TwisTorr 804 FS涡轮分子泵应用:

领域详细说明应用

 

 

质谱和分析仪器

  • 针对质谱系统优化的全系列泵和控制器
  • 具有多入口泵组的定制泵
  • 低成本、易于使用、高分析性能
  • 对于 GC/MS,提供用于相对低气体载荷环境的 1 个真空室和用于分析无机样品的中等真空接口
  • 对于 LC/MS,需要提供多室、高通量真空系统
  • 对于 ICP-MS,提供多种真空系统,包括用于氩气等重载气的泵和使用氦气的碰撞池
  • 对于 TOF 系统,需要较小尺寸、高通量和高效的散热设备
  • 质谱
  • GC/MS
  • LC/MS
  • ICP-MS
  • TOF

 

科研中的真空应用

  • 非常清洁、可靠和高性价比的 HV 和 UHV
  • 粗真空轴承未暴露于 UHV,降低了污染
  • 高速和高压缩
  • 可以以任意角度安装
  • 联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体
  • 高能物理
  • 融合技术
  • 一般 UHV 研究
  • 同步光源粒子加速器

 

 

 

 

 

 

工业真空加工

 

  • 为薄膜沉积应用而专门设计的集成分子泵解决方案

  • 适用于原始设备制造商和终端用户的专业性能

  • 适用于具有预真空锁或大型内联连续系统的单室批量系统和多室系统的泵

薄膜沉积:

  • 玻璃涂层设备(建筑和汽车玻璃,平板显示器)
  • 薄膜太阳能电池生产(光电)
  • 光学数据介质(CD、DVD、磁光光盘)
  • 磁性存储介质
  • 表面处理
  • 光学涂层(眼科、精密光电)
  • 膜或箔上的辊式/卷绕涂覆

设备加工:

  • 生产电视机和显示器显像管
  • 疏散灯(高速公路照明、投影机)
  • X 射线管和电子设备

一般工艺:

  • 真空炉/冶金

 

 

 

 

纳米技术仪器

  • 分析从有机化合物到半导体晶片等各类物质
  • 全系列的高真空和超高真空泵特别适用于要求严苛的 SEM、TEM 和表面分析系统
  • 低振动涡旋泵适用于最敏感的显微分析
  • 可快速、无油式排空大型样品室内的气体
  • 集成的泵控制器可灵活进行控制,几乎不生成电磁噪音
  • 非常适合为半导体生产创造合适环境
  • 高转速确保能够以高泵速抽空半导体生产中释放的轻质气体(He、H)
  • 符合高速循环应用的严格要求,例如真空装载锁
  • 通过对多个涡旋泵联用一个前级泵,可提高工具的可靠性
  • 联用 Turbo-V 和 TriScroll 干式泵可泵送大量气体
  • 安装于支架上的控制器或一体式控制器允许将电子设备放置于远处
  • 电子显微镜(SEM、TEM)
  • 聚焦离子束系统 (FIB)
  • 表面分析
  • 半导体制造

 

性能指标 :

抽速:ISO200K-F

ISO250K-F

CFF10
N2
He
H2
Ar
720 L/s
660 L/s
485 L/s
690 L/s
  
最高气体通量 (*)风冷
(空气温度 25 °C)
水冷
(水温 15 °C/室温 25 °C)
 
N24.3 mbar L/s
255 SCCM
6.1 mbar L/s
367 SCCM
 
He7.9 mbar L/s
467 SCCM
10.4 mbar L/s
615 SCCM
 
Ar1.5 mbar L/s
89 SCCM
3.3 mbar L/s
195 SCCM
 
(*) 前级泵 11.6 m3/h   
压缩比与前级耐压关系*   
N2
He
H2
Ar
> 1E + 11
2E + 08
3E + 06
1E + 11
10 mbar
10 mbar
4 mbar
8.5 mbar
 
(*) 前级耐压定义为,在水冷模式下,当涡轮泵仍能产生 100 的压缩比时的压力   
采用推荐前级泵时的极限真空< 1 × 10-10 mbar
(< 1 × 10-10 Torr)
  
抽气口法兰ISO 200K,ISO 200F,ISO 250K,
ISO 250F,CFF 10 英寸
  
前级管道法兰NW25 或 NW40  
推荐的前级泵DS302
IDP10
IDP15
  
工作位置任意  
操作环境温度+5 °C 至 +35 °C  
润滑油长期性脂润滑  
冷却要求   
风冷空气温度由 +5 °C 至 35 °C  
水冷水温由 +15 °C 至 +25 °C
水流速最低 100 L/h
  
噪音压力级别
(全速运行时距离 1 m 处)
43 dB(A)  
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