优普UPR-II台上(超)纯水机实验室纯水设备

优普UPR-II台上(超)纯水机实验室纯水设备

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2024-11-06 10:10:22
14638
属性:
产地类别:国产;纯水水质:一级纯水器;电阻率:18.2MΩ·CM;价格区间:面议;颗粒物(>0.1μm):≤1个/mlμm;热源/内毒素:≤0.001EU/ml;微生物:≤1cfu/ml;仪器种类:超纯水仪;应用领域:医疗卫生,环保,生物产业,制药,综合;重金属离子:≤0.1ppb;总有机碳(TOC):≤10ppb;
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产品属性
产地类别
国产
纯水水质
一级纯水器
电阻率
18.2MΩ·CM
价格区间
面议
颗粒物(>0.1μm)
≤1个/mlμm
热源/内毒素
≤0.001EU/ml
微生物
≤1cfu/ml
仪器种类
超纯水仪
应用领域
医疗卫生,环保,生物产业,制药,综合
重金属离子
≤0.1ppb
总有机碳(TOC)
≤10ppb
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四川优普超纯科技有限公司

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产品简介

优普UPR-II台上(超)纯水机实验室纯水设备是双级反渗透工艺制造的一套高效实验室超纯水系统,采用全塑ABS工程塑料外壳,4.3吋触摸屏显示。适用于水质较差地区,经UPR-II多级水处理后,RO纯水电导率稳定在1~5μS/cm,满足GB/T 6682-2008实验室三级水的要求,UP超纯水电阻率18.2MΩ.cm,满足GB/T 6682-2008、GB/T3308-2016等水质要求。

详细介绍

产品说明-优普UPR-II台上(超)纯水机实验室纯水设备
       UPR-II-TN台上式(超)纯水水机是严格按照双级反渗透工艺标准设计制造的一套高效实验室超纯水制备系统,采用全塑ABS工程塑料外壳,耐酸碱防腐蚀,4.3吋触摸屏显示,实现亲切直观的人机交互。可适用于水质较差的地区,经UPR-II多级水处理工艺后,RO纯水电导率可稳定在1~5μS/cm,满足GB/T 6682-2008实验室三级水的要求,UP超纯水电阻率18.2MΩ.cm,满足GB/T 6682-2008、GB/T33087-2016等水质要求,是一款高性价比的实验室超纯水机。

系统功能-优普UPR-II台上(超)纯水机实验室纯水设备

  1. 人机交互系统,操作便捷,显示直观;

  2. 登录许可,防止非法操作;

  3. 高精度仪表,水质、流量等在线监测显示,准确、直观、可靠;

  4. 可靠的历史数据记录与USB下载,轻松实现水样追溯、故障检索;

  5. 定量取水、快捷取水,解放双手轻松操作;

  6. 标准双级反渗透工艺,离子、有机物、微生物、热源去除能力更强,水质更稳定;

  7. 智能循环系统,除菌抑菌同步进行;

  8. 优普特殊技术的双层PE无菌水箱,配备呼吸器,储水安全无污染,清洗更便捷(选配);

  9. 选配TOC在线显示功能,实现用户需求;

  10. 耗材智能管理,产品维护更加简单。

 

技术指标:

机型 UPR-II-5/10/15TNZUPR-II-5/10/15TNZPUPR-II-5/10/15TNUPR-II-5/10/15TNP
进水要求总溶解性固体量TDS≤1000ppm,水压0.10~0.40Pa,水温5~45℃
制水量5/10/15(L/h)
RO出水水质电导率范围:1~5μS/cm(在线监测)
UP出水水质电阻率18.2MΩ.cm@25℃(在线监测),微颗粒物≤1个/ml,微生物≤1cfu/ml,重金属离子≤0.1ppb,TOC≤10ppb,热原≤0.001EU/ml
UF超滤膜选配
UV紫外线消解仪选配
主机尺寸380 Wx 505 Dx 620H (mm)
工作电源AC220V~50HZ(功率:170W)
主机重量28Kg
适用范围原子吸收(AAS)/原子发射(AES);离子色谱(IC);质谱分析(MS);等离子发射光谱(ICP);气相/液相色谱分析(HPLC)…… 
水箱配备15L压力纯水箱30L 无菌水箱(双层医疗级PE,标配呼吸器和取水龙头,另可选配紫外)20L PE水箱,15L压力纯水箱20L PE水箱,30L无菌水箱(双层医疗级PE,标配呼吸器和取水龙头,另可选配紫外)

备注:1、1.尺寸W(正面)x D(侧面)x H(高),尺寸误差为0~5mm;带Z机型为无中间水箱,中间水箱为20升PE水箱

订货须知:

      1、本产品制水量是指水温25℃时RO膜的额定制水量,水温每下降1℃,RO膜产水量约下降3%,当水温低于5℃时,RO膜将停止产水,用户选型订购时须考虑所在地区冬季水温下降的因素;

      2、电导率为连续制水时的典型值;

      3、产水TOC指标与原水TOC值和系统配置相关;
      3、源水水质较差(TDS≥200ppm)地区,建议加配全自动软水器,可有效降低对后继系统的耗材消耗。

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