简单原理
 

　　等离子清洗设备的原理是在真空状态下，压力越来越小，分子间间距越来越大，分子间力越来越小，利用射频电源产生的高压交变电场将工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的离子，然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质，然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去，从而达到表面清洁活化的目的。是清洗方法中*的剥离式清洗，其优势在于清洗后无废液，最大特点是对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地处理，可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
 

　　等离子清洗机和紫外清洗机的区别(简易)
 

　　1.清洗原理不同，等离子清洗机是气体在射频电源的作用下形成等离子，通过离子的化学、物理作用去处表面污渍，而紫外线清洗机是物体表面上的碳和碳氢化合物吸收光从而生成可挥发的气体：二氧化碳和水蒸气等逸出表面，从而*清除了黏附在物体表面上的碳和有机污染物。
 

　　2.清洗对象不同，等离子清洗机清洗范围广，可以清洗氧化物、有机物、无机物、油污等。