SilcoNert®2000是非晶硅的化学保护屏障，其进一步官能化以提供可用的最惰性表面。通过应用化学气相沉积（CVD），SilcoNert®2000非常适用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量级测试精度（<百万分之一）。