清洁度无尘室较主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

　　每立方米将大于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了无尘标准的*。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于*，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

　　清洁度无尘室的整体规划布局：

　　风淋室、传递穿、可视玻璃窗

　　净化结构部分、净化系统部分、配电系统

　　各个功能区域的划分，例如：清洗制样区域、颗粒分析区域、文件存放区域等

　　清洁度无尘室满足ISO14644-2015、GB50073-2001等标准要求