双光子无掩膜光刻的原理介绍
时间:2023-08-11 阅读:683
一、受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制。从纳米到介观尺度原型制作:同类中先的3D打印系统。可打印任何形状,已被工业界认可的QuantumX平台的二代加工系统。
二、原理作用过程:
(1)通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置,实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。
(2)不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具,同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。
三、特点与优势:
1.自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位
2.可达6英寸基片和硅片的广泛选择
3.工业化批量生产:200个标准介观尺度结构通宵产量
4.保证实用性和体验感的触控屏和远程控制功能
5.快速原型制作,高精度,高设计自由度,简易明了的工作流程
6.工业验证的晶圆级批量生产