各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进，大大扩大了制膜材料的选用范围，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。

    以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。

简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法即为真空镀膜。

     真空镀膜时，真空度一般在10的负3次方左右，真空度大小是真空镀膜时必须严格要求的指标之一，它对镀膜产品的颜色、耐磨性、牢固度有直接的关系，通常镀膜时加少许气体，还有通过对电弧电源的控制增加母材在真空室的离化率，还可通过磁场控制电弧等以改变产品的外观和内在品质。

    主要还是对镀膜工艺的影响，无论什么镀膜方式，真空度越高亦代表炉内所含的杂气原子越少，这样镀膜膜层成分就更趋近于你想要的比例，简单的说就是纯度及结晶状态更可控。

    同时，对于镀膜来说，加热基本是必须的，较高的真空度可以防止基材表面氧化或氮化，对结合力有很大的帮助。

    真空如果太低的话镀出来的产品会发黑，时间一长还会发黄，一般情况下抽到5.0-2就可以了，如果产品要求很高的话 就要抽到2.0-2了，当然产品要求不高的话抽到-2也可以蒸发的，我所说的说是蒸发镀！

真空镀膜--可见真空度对真空镀膜的影响

    真空度的高低就决定了你产品的合格与否，如果是装饰性镀膜，真空度的差别，直接导致的是颜色不一样

    如果是功能性薄膜，那么就是你做出的产品附着力，光学性能等等的各项指标出现偏差。