高温蒸镀仪，KT-Z1650CVD，石英＋不锈钢腔体，触摸屏控制，工艺储存功能，自动电控挡板保护样品

在厚度为2nm (20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到最大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4 mbar或更高的真空度。
涡轮分子泵在K950X中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5 mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。
标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座。

以下是不同真空度 不同镀膜时间镀铜样品图

  原样品没有镀膜                        115A 100秒 机械泵

115A 100秒 分子泵抽12分钟      115A 120秒 分子泵抽20分钟

真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色

高温蒸镀仪KT-Z1650CVD