冠层分析系统采用的是对冠层下天穹半球图像分析测量冠层孔隙率的方法，该方法是各类方法中准确和省力、省时、快捷方便的方法。

冠层分析系统采用了冠层孔隙率与冠层结构相关的原理。它是根据光线穿过介质减弱的比尔定律，在对植物冠层定义了一系列假设前提的条件下，采用半理论半经验的公式，通过冠层孔隙率的测定，计算出冠层结构参数。这是目前世界上各种冠层仪一致采用的原理。

测量参数

叶面积指数

叶片平均倾角

散射辐射透过率

不同太阳高度角下的直射辐射透过率

不同太阳高度角下的消光系数

叶面积密度的方位分布

功能特点

非破坏性地测定冠层结构

可以测量冠层内外的光合有效辐射(PAR)

手持式万向接头自动水平调整探头，无需三角架

随身携带的笔记本计算机可以帮助你正确选点取样，即时决定图像的取舍

由外接锂电池组提供电源便于观测和长时间测量，尤其适合完成野外繁重的观测任务

镜头角度：150°(或用户自选180°镜头。除用户有特殊需要，180°鱼眼镜头经常不适合

孔隙测量原理与方法所假设的前提条件，用于冠层结构分析是不适宜和不经济的)

分辨率：768×494pix

测量范围：天顶角由0°～75°

PAR感应范围：感应光谱400nm～ 700nm  测量范围0～2000μmol/㎡•S

分析软件：植物冠层

显示和内存：决定于笔记本电脑的选择。

电 源：锂电池组

传输接口：USB

工作温度：0～55℃