正电子寿命谱分析设备PSA1技术分析

它是一种可以使用正电子评估亚纳米尺寸（原子级）的微缺陷和空隙的方法。

正电子寿命测量是一种能够使用正电子评估亚纳米尺寸（原子级）微缺陷和空隙的技术。

本设备的应用示例

•  喷丸质量检查

• 金属疲劳损伤评估

用途

•  钢、铝、钛等各种金属

•  无定形材料，例如玻璃和聚合物

•  测量深度距表面约 50 μm（钢材）

正电子寿命法原理

• 图1是正电子进入金属材料并湮灭的示意图。
  正电子寿命测量方法是一种精确测量正电子产生过程中发射的γ射线与电子对湮灭过程中产生的γ射线之间的时间差（正电子寿命）的技术。
  当材料中存在更多空位并且位错密度更高时，正电子寿命更长。

• 规格

• 正电子源	Na-22 (~1MBq)
  计数率	约 100 cps
  测量范围	40 ns（用于金属、半导体和聚合物）
  附属设备	・HDO4024（Teledyne LeCroy DSO）、 （HDO4024 尺寸 W400 × L132 × H292 [mm]） ・特殊程序 ・笔记本电脑等