可以溅射各种金属的实验室沉积装置MSP-40T介绍

它是一种多功能型号，可以溅射各种金属，包括流行的钨。 它用于从表面观察到实验应用的广泛领域。 高纯度真空区域对于制备的样品至关重要。 MSP-40T 能够因涡轮泵排气而在真空区域飞溅。

装置	特征	目标金属
	MSP-40T 是一种多用途的实验室沉积装置。 新型号配备了全自动薄膜沉积功能。 高效的薄膜沉积，排气速度快，操作简单。 各种金属薄膜可以通过强磁场沉积。 涡轮泵和隔膜泵可实现清洁和高真空。 是一款性价比低廉的设备。 薄膜沉积靶材：金、银、铂、金-钯、钯、铜、铬、钯、镍、铁、钨、钼、钼、钛、铝、ITO等 。 对于未列出的目标，请联系我们。

用于复杂形状样品和超高放大倍率观察

对于形状复杂且超高放大倍率观察200，000倍或以上的样品，请考虑具有出色环绕性和细颗粒的锇镀膜机。

Os：锇
由于它被包覆在气体气氛中，因此可以很好地包裹样品，并且粒径非常小。
主要用于涂覆生物样品和具有三维结构的样品。

W：钨
颗粒体系与锇相当，但由于薄膜沉积方法的差异，其环绕性不如锇镀膜机。