agc溅射靶材的特点及运用示例分析
时间：2023-12-11 阅读：590
agc溅射靶材的特点及运用示例分析
1. 光学薄膜用靶材
目的
汽车和住宅用表面处理玻璃的低辐射涂层
显示膜和玻璃减反射涂层
触摸屏等光学调整膜（折射率匹配膜）
信息电子玻璃用光学多层膜（CD、DVD等的镜子）
| 材料 | 产品名称 | 目标形状 | 目标 | 薄膜（氧化膜用） | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圆柱 | 直流溅射 | 特征 | 耐碱性 | 耐酸性 | 耐刮擦 | 其他的 | ||
| 硅基 | SC | ○ | ○ | 高速成膜（>结晶Si）、 高强度、高导热率 | ○ | ○ | ○ | n=1.46 无定形 | |
| 热喷涂硅 | ○ | ○ | ○ | 稳定放电 | ○ | ○ | ○ | n=1.46 无定形 | |
| 铌基 | N.B.O. | ○ | ○ 热喷涂 | ○ | 高密度、 高速成膜（＞Nb） | ○ | ○ | ○ | n= 2.3 无定形 |
| 钛基 | TXO | ○ | ○ 热喷涂 | ○ | 高速成膜（>Ti） | ○ | ○ | ○ | n=2.45 无定形 |
此处列出的质量数据仅供参考，并非保证值。关于下单时的质量保证，我们将另行协商决定。请注意，列出的质量数据如有更改，恕不另行通知。
特征
SC
由于其高强度、高导热性、均匀的结构靶材，实现了长期稳定放电。
与使用结晶Si成膜的情况相比，成膜速度提高了20%。
通过氧化反应溅射获得非晶SiO 2膜。
通过氧化反应溅射获得的薄膜是无色且高度透明的。
N.B.O.
成膜速度比金属铌成膜时快3倍以上。
通过氧化反应溅射获得非晶Nb 2 O 5膜。
通过氧化反应溅射获得的薄膜是无色且高度透明的。
TXO
成膜速度比金属Ti快7倍以上。
通过氧化反应溅射获得非晶TiO 2膜。
通过氧化反应溅射获得的薄膜是无色且高度透明的。
2. 高耐久性保护膜用靶材/中折射率薄膜用靶材
目的
汽车、住宅用表面处理玻璃（有色玻璃、热反射玻璃等）保护膜
显示薄膜（触摸屏等）的防反射涂层
适用于条码阅读器和复印机顶部玻璃的防刮保护膜
适用于所有需要耐碱、耐刮伤的薄膜的保护膜。
| 材料 | 产品名称 | 目标形状 | 目标 | 薄膜（氧化膜用） | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圆柱 | 直流溅射 | 特征 | 耐碱性 | 耐酸性 | 耐刮擦 | 其他的 | ||
| 硅基 | SX | ○ | ○ | 高密度 、低飞弧特性 | ◎ | ◎ | ◎ | n= 1.7 无定形 | |
| 英石 | ○ | △ 开发中 | ○ | 高密度、 高速成膜（>SX） | ○ | ◎ | ◎ | n=1.7～ 2.0非晶态 | |
此处列出的质量数据仅供参考，并非保证值。关于下单时的质量保证，我们将另行协商决定。请注意，列出的质量数据如有更改，恕不另行通知。
特征
SX
通过氧化反应溅射获得非晶膜，该非晶膜平坦且具有低摩擦特性。
通过氧化反应溅射获得的薄膜是无色且高度透明的。
通过氧化反应溅射获得的薄膜具有优异的耐刮擦性和耐化学性。
英石
成膜速度比SX更快。
通过氧化反应溅射获得非晶膜，该非晶膜平坦且具有低摩擦特性。
通过氧化反应溅射获得的薄膜是无色且高度透明的。
通过氧化反应溅射获得的薄膜具有优异的耐刮擦性和耐化学性。
通过氧化反应溅射获得的薄膜具有液滴特性。
所得薄膜的折射率可在 1.7 至 2.0 之间变化，具体取决于目标组合物。
3. Low-E介电薄膜靶材/中折射率薄膜靶材
目的
建材用Low-E（低辐射）薄膜用介电薄膜
防反射膜等光学膜用中折射率膜
| 材质系统 | 产品名称 | 目标形状 | 目标 | 膜质量 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圆柱 | DC成膜 | 特征 | |||
| 锌基 | 深圳 | ○ | ○ | ○ | 合金靶材 Ar膜沉积 | n=2.0 无定形 |
| AZ | ○ | △ 开发中 | ○ | 合金靶材 Ar膜沉积 | n=2.0 无定形 | |
此处列出的质量数据仅供参考，并非保证值。关于下单时的质量保证，我们将另行协商决定。请注意，列出的质量数据如有更改，恕不另行通知。
特征
使用我们的制造方法，圆柱形 SZ 靶材与背衬管实现了高粘合强度。因此，与传统的热喷涂靶相比，可以使用高功率溅射进行高速成膜。
可制造总长3m以上的长圆柱形靶材。
4、透明导电膜用靶材
目的
环境及能源玻璃（太阳能电池等）用透明电极
显示玻璃用透明电极
汽车和住宅玻璃用透明导电膜（热反射玻璃、电动汽车表面加热元件等）
纤维、薄膜等抗静电涂膜
| 材质系统 | 产品名称 | 目标形状 | 目标 | 膜质量 | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圆柱 | DC成膜 | 特征 | 电导率 | 耐化学性 | 其他特性 | ||
| 锌基 | 广州市 | ○ | ○ | 高密度烧结体 Ar成膜 | ○ | × | n=1.9 低温结晶膜 | |
| 偶氮 | ○ | △ 开发中 | ○ | 高密度烧结体 Ar成膜 | ○ | × | n=1.9 低温结晶膜 | |
此处列出的质量数据仅供参考，并非保证值。关于下单时的质量保证，我们将另行协商决定。请注意，列出的质量数据如有更改，恕不另行通知。
特征
相对密度90%以上的高密度ZnO靶材。
与ITO相比，不易产生结节，可实现稳定的放电。
可在纯氩气气氛下成膜。
即使在室温下也可以形成结晶膜。