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它由红外引入主体、多口真空室、温度控制器等组成，能够在高真空下对样品进行超高速加热。
它有许多真空口，可用于多种实验。 |
| | 通过打开和关闭真空室前门即可取出和取出样品。 |
| [应用]
- 真空和气体环境中样品的连续加热和冷却控制
- 样品表面加热和背面冷却的快速升降温测试（可选）
- 加压气氛中加热（可选） |
| | 型号名称 | GV1 | GV2 | | 红外灯额定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | 达到最高温度 | 1300℃ | 1500℃ | | 加热面积 | ～φ20mm | | 最大升温速率 | 100～150℃/秒 | | 最大真空度 | 5× 10-5帕 | | 冷却水量 | 1升/分钟 | 2升/分钟 |
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| 它由红外线导入加热装置、小型真空室、测温样品部、温度控制器等组成。 |
| 通过从底部用红外线照射真空室内的样品，可以清洁地加热样品并以超高速升高温度。
您可以在样品加热时从腔室顶部的观察窗观察样品并拍照。 |
| | 型号名称 | RTA198 | RTA298 | | 红外灯额定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | 达到最高温度 | 900～1000℃ | 1000～1300℃ | | 加热面积 | ～φ20mm | | 最大真空度 | 5×10 -3帕 | 5× 10-5帕 | | 冷却水量 | 1升/分钟 | 2升/分钟 |
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| 它由超高真空红外感应加热装置、超高真空室、质谱仪、电源/安全电路单元、真空排气装置组成，能够对样品产生的痕量气体进行质谱分析达到高温。 |
| | 红外感应加热设备的热源位于真空室外，不产生气体，可以进行清洁加热，可以进行高精度分析。 |
| | 型号名称 | 病毒2H | | 红外灯额定值 | 2千瓦 | | 达到最高温度 | 1500℃ | | 加热面积 | φ15mm | | 最大真空度 | 5× 10-6帕 | | 交货目的地 | 京都大学 |
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介绍三种非常适合在磁场中对样品进行热处理的模型。
【特点】
- 由于采用红外线传输加热方式，样品不受电磁感应影响
- 只能对样品进行精准加热，磁体壁不被加热。 |
| 也可以在真空或气体气氛中升高温度。
可贴附于超导磁体及各种电磁铁上。 |
| | 当样品温度为1000℃时，孔内壁温度低于40℃。 |
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在高真空中进行 X 射线照射时，样品被加热至超高温度。
（红外线从左上对角方向和右下对角方向照射，X射线从左侧和水平方向照射。） |
| | 真空室安装在XY工作台、旋转工作台和旋转工作台上，可以在加热、保持或冷却样品的同时从任何角度分析样品的晶体结构。 |
| | 型号名称 | GVL298-2S | | 红外灯额定值 | 2kW×2 | | 达到最高温度 | 1500℃ | | 加热面积 | φ20mm | | 最大真空度 | 5× 10-4帕 |
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| | 送货目的地：Spring-8 |
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红外感应加热装置与各种分析装置结合使用。
左图是X射线光电子能谱仪。 |
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这是将 GVL298 类型安装到 XPS 的示例。
通过红外线照射对预真空室内的样品进行加热，除去样品中所含的水分和气体并进行清洁。
样品在超高真空中通过传输杆移动到照片右侧的XPS分析室，在那里接受X射线照射并进行表面分析。 |
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