半导体器件制造过程中液体成分浓度检测设备ChemicAlyzer介绍
时间:2024-11-22 阅读:71
半导体器件制造过程中液体成分浓度检测设备ChemicAlyzer介绍
ChemicAlyzer是一款利用光吸收原理并采用在线设计实现连续测量的液体成分浓度计。自 1990 年作为红外液体成分浓度计的先驱开始业务以来,我们利用丰富的专业知识和技术,响应不断发展的半导体器件制造过程中的测量需求,提高质量和化学浓度。管理。
我们将通过灵活应对工艺和特殊化学溶液,并通过高精度化学浓度测量“满足一步的测量需求”,继续为制造工艺的优化做出贡献。
高质量
我们为每个测量目标选择最佳波长,并为每个设备创建校准曲线。
我们提供稳定的产品,机器变化很小,并通过了检验测试。高性能
ChemicAlyzer 是一款高性能浓度计,具有出色的响应和分辨率。
可以控制浓度,而不会遗漏高度分解成分的哪怕最轻微的变化。高耐用性
有助于降低长期运行成本。
十多年来,我们一直持续提供支持,并拥有客户使用我们产品的记录。
晶圆制造流程
半导体制造工艺
液晶面板制造流程
板材制造流程
晶体谐振器制造工艺
・抗蚀剂剥离液的浓度控制
・再生药液的浓度管理
・后处理用化学溶液的浓度控制
・酸碱清洗液的浓度控制
・氧化膜/氮化膜蚀刻液的浓度控制
・其他特殊化学溶液的浓度控制
它还用于广泛的行业,包括电池材料制造过程以及清酒和醋的发酵测量。
我们的高性能测量技术得到了高度评价,在日本、东亚和美国已销售超过3,000台!
基本规格
测量方法 | 近红外透射光谱 |
---|---|
最短测量时间 | 2秒 |
测量值输出 | DC4-20mA |
输入信号 | 晶体管电流驱动输入(测量、校准、预热结束等) |
输出信号 | 集电极开路输出(READY、BUSY、设备错误、测量、成功、上下限报警等) |
接液部件材料 | 石英池规格:PFA、PTFE、石英(池)、全氟(O 型圈) 蓝宝石池规格:PFA、PTFE、蓝宝石(池)、Kalrez(O 型圈) |
最大工作压力 | 0.2MPa |
配管直径 | IN: Φ3 × Φ2 OUT: Φ4 × Φ3 (mm) 包含每根 1m 管 |
化学液体清单
主要用途 | 成分1 | 成分2 | 成分3 | 评论 | 通用名 | 推荐高精度型 | 需要特殊波长 |
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半导体 | 氨 | 双氧水 | APM、SC1 | ||||
高频 | |||||||
高频 | 稀 | 氢氟酸 | ○ | ○ | |||
H 2 SO 4 | 双氧水 | SPM | |||||
高频 | 双氧水 | 氟甲基丙烯酸甲酯 | |||||
高频 | 双氧水 | 稀 | 氟甲基丙烯酸甲酯 | ○ | ○ | ||
高频 | 盐酸 | ○ | ○ | ||||
高频 | H2SiF6 | ○ | |||||
人机交互 | 双氧水 | HPM、SC2 | ○ | ||||
氢氧化钾 | 双氧水 | ||||||
氢氧化钠 | 双氧水 | ||||||
H 3 PO 4 | |||||||
高频 | NH4F | ○ | |||||
高频 | 硝酸3 | ○ | |||||
高频 | 双氧水 | CH3COOH | ◎ | ||||
液晶 | 四甲基氢氧化铵 | 开发商 | |||||
H 3 PO 4 | 硝酸3 | CH3COOH | 蚀刻 | ◎ | |||
H 2 SO 4 | 双氧水 | 铜 | 蚀刻 | ◎ | ○ | ||
水 | 胺 | 溶剂 | 抗剥落 | ◎ | ○ | ||
其他的 | 异丙醇 | ||||||
水 | 有机溶剂中微量水分 | ○ | |||||
CH3COOH | C2H5OH | 醋 | ○ | ||||
C2H5OH | 葡萄糖 | 日本清酒 | ○ | ○ |
*由于采用光学方法,因此无法测量不透光的不透明化学溶液