半导体、电子行业喷涂用二流体喷嘴的要求

工业喷雾喷嘴在电子行业有着广泛的应用，可应用于半导体制造过程，硅晶片制造工序，等离子体显示器制造、电子显像管、以及印制电路板的制作（PCB）中，显影、蚀刻、冲刷、除膜、喷涂等众多工序。同时还能用于消除静电，保障电子行业生产顺利进行，是电子行业中不可缺重要装置。

光刻胶，是一种对光敏感的化学物质。它是由光敏树脂、增感剂、溶剂三种主要成分组成。经曝光之后，胶会产生化学反应，从而导致溶解度发生变化。利用这种性质，通过带有特定图形的掩膜就可以在基板上得到特定的图形。我们首先将光刻胶涂覆到半导体材料上，经过曝光显影后，留下的光刻胶部分相当于对底层进行保护，之后用蚀刻剂进行蚀刻，最终达到将掩膜版上特定的微细图形转移到衬底上的目的，因此光刻胶是微细加工技术中的关键性材料。

如何将光刻胶均匀且符合工艺要求的涂覆到衬底表面，也是非常关键的课题。目前涂覆工艺有旋涂、浸涂以及超声波喷涂等工艺。旋涂，也就是离心旋转法，是将一定量的光刻胶溶液滴在基材表面，随后通过离心力的作用将胶铺展到基片上，此种方法可以得到厚度均匀的光刻胶薄膜，但普遍存在膜厚偏薄且厚度范围调节不稳定的问题。而且采用离心旋转法涂胶，在旋转过程中基片上多余的光刻胶被甩出，造成光刻胶浪费。而浸涂法，虽然操作方便效率高且涂料利用率也比较高，但只适用于形状简单的流线型材料，而且涂料量不好控制。

Atmax喷嘴是获得的“外混合涡流式紧凑型精密二流体喷嘴”，非常适合雾化液体。
高速旋流将液体高效粉碎雾化成雾化喷雾。液滴尺寸分布也非常好。喷嘴内部结构非常简单，大直径可以稳定连续喷射，不会堵塞。为了获得雾化液体，人们一直认为液体应该通过微小的孔喷射出来，但Atmax喷嘴是一个源自想法的原创产品。

技术/结构简单即使使用高粘度和浆料也不会堵塞

• 还可以喷涂以前难以雾化的粘性液体、浆料和乳液。

• 由于是外置混合喷嘴，因此喷嘴内部不存在液体堵塞的可能性。

• 液体流路具有简单的直线结构。

• 与传统喷嘴相比，喷雾孔径更大（约10至200倍）。

• 即使在低压下也能进行喷雾操作，因此不会滴落或滴落。

高性能/高功能可喷射 细颗粒喷雾（5μm）

• 即使喷射直径很大，也可以喷射出细小的颗粒。涡流雾化提供非常均匀的颗粒尺寸。

• 可以用单个喷嘴控制喷射的颗粒从相当于5微米到雨滴大小。

• 该喷嘴也非常适合多种液体的混合喷涂。液体供应通过管道分别输送到喷嘴附近，从而可以在喷嘴喷射部分进行混合喷射。当由于液体的性质而无法预先搅拌和混合时，它是有效的。

• 由于部件配置简单，喷嘴可以根据使用环境和耐化学性采用特殊材料制造。我们可以选择和制造耐热、耐腐蚀、耐磨材料。

• 由于单喷嘴的喷射控制自由度较大，因此喷射条件的设定相对容易。通过控制供应的液体量和雾化气体的流速，可以实现所需的喷射设置。

小巧轻便可以安装在任何地方、用于任何目的

• 喷嘴尺寸极小，因此可以安装在任何地方。

• 由于重量轻，因此可以轻松安装在设备中。喷嘴可以使用注射口附近的安装螺钉和螺母固定。

优异的维护性仅 2 个组件

• 只有两个部件，因此易于安装和拆卸，维护简单。

优异的节能性能技术实现高效喷涂

• 我们的技术可实现高效的雾化喷涂。与传统喷嘴相比，雾化消耗的压缩气体更少。

• 由于喷嘴具有自吸功能，无需泵即可喷射低粘度液体。

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