带您了解纳米压印系统的相关信息
时间：2022-09-15 阅读：1261
纳米压印技术工艺：模板制造、压印过程(包括模板处理、加压、脱模过程)及图形转移过程。纳米压印精度和模板的精度直接相关；光刻胶材料影响着热压温度和曝光时间；压印过程中模板与压印材料之间的对准、平行度、压力均匀性、温度均匀性、脱模技术等都会影响最终的产品质量。在压印后精细结构检测方面，一般需要检测的项目包括：线宽、深度、缺陷、膜厚、粗糙度、翘曲度等，主要用到AFM、SEM、台阶仪、轮廓仪等设备。
纳米压印较传统光刻技术可在采用较低成本的条件下大批量制备具有超高精度的图形，同时也具有良好的均匀性和可重复性，此外可以传统光刻工艺有很大程度的兼容性。纳米压印除了在集成电路领域有着非常广阔的应用前景，同时在光学领域纳米压印可用来制备周期小于光学波长的亚波长光栅。