Sentech激光椭偏仪与干涉膜厚仪-Se500adv

SE 500adv结合了椭偏仪和反射仪，除了测量透明膜层厚度的模糊性。它把可测量的厚度扩展到25m，因此SE 500adv扩展了标准激光椭偏仪SE 400adv的能力，特别适用于分析较厚的介质膜、有机材料、光阻、硅和多晶硅薄膜。

椭偏测量和反射测量的结合允许通过自动识别循环厚度周期来快速且明确地确定透明膜的厚度。

宽测量范围

激光椭偏仪和反射仪的结合将透明薄膜的厚度范围扩展到25μm，更多地取决于光度计的选项。

扩展激光椭偏仪的极限

性能优异的多角度手动角度计和角度精度优越的激光椭偏仪允许测量单层薄膜和层叠膜的折射率、消光系数和膜厚。

测量太阳能电池硅片上的增透膜的厚度和折射率，是生产高性能太阳能电池的先决条件之一。椭偏仪测量因为其快速和非接触光学测量方法，适合用来测量膜厚和折射率。但是，多晶硅的粗糙表面明显降低测量效果，甚至根本不能测量。SENTECH公司开发了高灵敏度和可靠度的632.8 nm单波长椭偏仪，适合分析太阳能电池上的增透膜。高稳定性补偿器被用来测量反射光的椭偏角并用来证实*测量的椭偏数据的有效性。样品是不同的多晶硅上的氮化硅减反射膜。该领域的仪器已经能够测量其膜层的厚度和折射率。

SE 500adv可作为激光椭偏仪、膜厚探针和CER椭偏仪使用。因此，它提供了标准激光椭偏仪从未达到的大灵活性。作为椭偏仪，可以进行单角度和多角度测量。当用作膜厚探针时，在正常入射下测量透明或弱吸收膜的厚度。

SE 500adv中的椭偏测量和反射测量的组合包括椭圆测量光学部件、角度计、组合反射测量头和自动准直透镜、样品台、氦氖激光光源、激光检测单元和光度计。

SE 500adv的选项支持在微电子、微系统技术、显示技术、光伏、化学等领域的应用。

SE 500adv可按三种模式操作,比通用椭偏仪具有更好的灵活性:

椭偏仪模式:用632.8 nm激光测量1到3层膜的光学系数和膜厚

膜厚仪模式:用白光反射干涉原理测量单层或多层的透明或弱吸收膜（膜的光学常数已知)

CER模式:自动识别透明膜的测量周期,可确定透明膜的Cauchy相关系数

可选项：

Mapping自动扫描：50×50~300 × 300 mm2

自动准直： 高度/俯仰自动调节

自动角度计： (20°) 40° - 90°

微细光斑：直径30 um

视频摄像头：数字Camera

样品液体池：液体可流动、可加热

椭偏分析软件：SpectraRay / 4

标准片各种厚度