小型化设计：主机尺寸为 300mm（宽）×450mm（深）×450mm（高），结构紧凑，占用空间小，便于在实验室等空间有限的环境中使用。

内置隔振机构：采用浮动结构有效抑制振动，确保光刻过程的精度和稳定性，无需额外配备复杂的隔振台，降低了对使用环境的要求。

内置真空吸油泵：可牢固固定工作台上的基片或样品，防止在光刻过程中发生位移，保证曝光的准确性。

低使用成本：相比大型光刻设备，能源消耗和维护成本较低，且不需要使用冷却液体和压缩气体等额外辅助设备，降低了设备运行的复杂性和成本。

用户友好型接口：操作软件界面简洁直观，易于上手，方便用户进行操作和参数设置。

简易流程：光刻操作流程简单，用户将设计好的图形导入软件，选择相应的曝光参数即可进行光刻操作，提高了工作效率。

支持对准和曝光条件检查：对于对准精度要求较高的光刻工艺，能够提供准确的对准功能，用户还可在软件中检查曝光条件，以便及时调整参数，保证光刻效果。

曝光光源：采用 365nm（典型值）的 LED 光源，能量稳定性高，使用寿命长，可满足多种光刻胶的曝光需求。

线宽精度：使用不同物镜可实现不同的最小线宽，如使用 ×10 物镜时，最小线宽可达 3μm；使用 ×2 物镜时，最小线宽为 15μm。

曝光面积：单次曝光面积因物镜而异，使用 ×10 物镜时，单次曝光面积为 1mm×0.6mm；使用×2 物镜时，单次曝光面积为 5mm×3mm。最大曝光区域为 25mm×25mm（手动或自动连接）。

兼容文档格式：可接受的文档格式丰富，包括 dxf、jpeg、png、bitmap、xps 等，方便用户导入各种设计图形。