纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器 Lumina系列为电子，光电，MEMS和许多其他应用中的高分辨率，对准，接触和接近光刻提供了高质量，可靠且经济高效的解决方案。 它具有易于使用的界面，高精度的载物台，高性能的光学元件和较小的占地面积。

Nanonex Lumina-200纳米压印主要特点

高分辨率光刻

高精度对准平台

*的对准光学

间隙控制

用户友好的PC控制

占地面积小

具有成本效益的设计

背面对齐可选

应用领域：半导体器件 *微机电系统 *光电子学 *高级包装 *电力设备

纳米压印Nanonex高分辨率光刻/对准器技术参数

手册X-Y-?

带称重传感器的电动Z

移动范围： X和Y：1英寸

?：10度

Z：0.25英寸

掩膜加载能力

5”口罩标准

其他尺寸可选

基板装载能力

4”标准

其他尺寸可选

对准 模式：接近、柔和、硬

对准光学

分割栏 5倍物镜，1到7倍变焦

2个独立的手动X，Y，Z显微镜移动 精细粗调

通过CCD相机成像

曝光系统

紫外线：汞灯，带有可选的G线或I线过滤器

紫外线灯功率：500瓦

紫外线均匀照射

电动紫外线灯移动

具有Microsoft Windows的基于PC的控制计算机

用户友好的控制软件 PC控制的CCD视频

紫外线灯曝光由电脑控制

占地面积：31英寸乘44英寸（780毫米乘1110毫米）