Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2021-03-24 13:26:46
872
属性:
价格区间:面议;应用领域:医疗卫生,环保,化工,电子,综合;组件类别:光学元件;
>
产品属性
价格区间
面议
应用领域
医疗卫生,环保,化工,电子,综合
组件类别
光学元件
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上海攸亦光电科技有限公司

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产品简介

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1
BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的选择范围广泛,可快速交付。薄膜偏振片具有较高的激光损伤阈值,专为要求较苛刻的应用而设计,工作在1040-1070 nm范围的Nd主激光器和飞秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

详细介绍

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1


Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

分离特定波长的s偏振和p偏振分量。由于其高损伤阈值,薄膜偏振片在高能激光器的应用中取代了格兰激光偏振棱镜或立方偏振分束器。

产品介绍

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的选择范围广泛,可快速交付。薄膜偏振片具有较高的激光损伤阈值,专为要求较苛刻的应用而设计,工作在1040-1070 nm范围的Nd主激光器和飞秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片将特定波长或波长范围的S偏振和P偏振分量分开。 由于10 ns薄膜偏振片的高损伤阈值在1064 nm处达到10 J / cm2,因此在高能激光器的应用中替代了格兰激光偏振棱镜或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它们可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:蓝宝石激光器的基本波长及其谐波,也可以用作腔内Q开关释抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的较有效方法是在布鲁斯特角-56°±2°且损耗较小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我们提供四种类型的薄膜偏振片:

Ø标准-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

产品型号

代码

波长

材料

偏振效率

消光比

尺寸

 

420-1110E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1240E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1270

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1370

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1510E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1242HE

343 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1242HT

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1112E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1242E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1512E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1272

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1372

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1122E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1252HE

355 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1252HT

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1252E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1282

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1382

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1502E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1123E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1253E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1283

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1383

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1503E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0114E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1114E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1244HE

515 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1244HT

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0244E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1244E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0274

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1274

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1374

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0514E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1514E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0124E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1124E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1484HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

20 x 15 x 6 mm

 

420-1254HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254UHT

532 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254HT

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0254E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0284

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1284

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1584HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

30 x 20 x 6 mm

 

420-1384

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0504E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1504E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0125E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0255E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0285

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-0505E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0127E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0257E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0287

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-0507E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0136E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1136E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0266E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1266E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0296

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1296

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1396

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0526E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1526E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0126E

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1126E

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

 

材料

BK7, UV FS

表面质量

20-10表面光洁度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸变

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 30 arcsec

通光孔径

> 90%

入射角

56°±2°

直径公差

+0.0 -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光损伤阈值

10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz

消光比Tp / Ts

>200:1 (for standard, HT and UHT series)

>1000:1 (for HE series)

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的选择范围广泛,可快速交付。薄膜偏振片具有较高的激光损伤阈值,专为要求较苛刻的应用而设计,工作在1040-1070 nm范围的Nd主激光器和飞秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片将特定波长或波长范围的S偏振和P偏振分量分开。 由于10 ns薄膜偏振片的高损伤阈值在1064 nm处达到10 J / cm2,因此在高能激光器的应用中替代了格兰激光偏振棱镜或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它们可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:蓝宝石激光器的基本波长及其谐波,也可以用作腔内Q开关释抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的较有效方法是在布鲁斯特角-56°±2°且损耗较小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我们提供四种类型的薄膜偏振片:

Ø标准-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系统和光学仪器中使用的精密激光组件的制造商和供应商。 我们的激光组件可在科学,工业,医学,美学,军事和航空航天市场的不同激光和光子学应用中使用。 波长范围从紫外(193 nm)到可见光(VIS)到红外(20μm)以及太赫兹(THz)范围的激光光学组件的应用范围。
EKSMA Optics是高功率激光应用,激光介质和非线性频率转换晶体,光机械,带驱动器的电光普克尔盒以及超快脉冲拾取系统的制造商和供应商,它们用于激光器和其他应用光学仪器。
EKSMA Optics从1983年开始在激光领域开始其一项业务,其基础是在激光和光学领域的长期专业知识。
公司提供的所有组件均经过质量控制实验室的高质量测试和认证。 通过严格的检查程序,质量控制评估以及对新技术的承诺,我们不断改进并提供优良的质量。 EKSMA OPTICS已通过ISO 9001:2015认证。 必维检验集团(Bureau Veritas)颁发的认证。
EKSMA OPTICS大力投资于的制造设备和扩展制造能力。
公司拥有:❯用于平板玻璃和熔融石英光学元件的切割,研磨和抛光设备。 nonlinear可根据要求提供非线性和电光晶体LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶体的抛光设备。 of球面镜和非球面镜(包括轴锥)的研磨和抛光设备。 在我们的镜头生产工厂中,镜头由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ❯IBS镀膜设施可用于激光光学和晶体的,超精密薄膜镀膜。 of电光调制器的组装设备–基于BBO,DKDP和KTP晶体的普克尔斯盒。

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的选择范围广泛,可快速交付。薄膜偏振片具有较高的激光损伤阈值,专为要求较苛刻的应用而设计,工作在1040-1070 nm范围的Nd主激光器和飞秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片将特定波长或波长范围的S偏振和P偏振分量分开。 由于10 ns薄膜偏振片的高损伤阈值在1064 nm处达到10 J / cm2,因此在高能激光器的应用中替代了格兰激光偏振棱镜或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它们可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:蓝宝石激光器的基本波长及其谐波,也可以用作腔内Q开关释抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的较有效方法是在布鲁斯特角-56°±2°且损耗较小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我们提供四种类型的薄膜偏振片:

Ø标准-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

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