光刻是使用曝光将设计的掩模图案转移到基板的过程，URE-2000/35型紫外光刻机是专为实验室研发和小批量生产而设计的高分辨率光刻系统。光刻机提供良好的基板适应性，可夹持的标准尺寸基板最大直径为150mm。该设备提供多种曝光方式，包括真空、软接触、硬接触等，可实现键合对准、纳米压印、微接触密封等多种功能。

　　

　　1、稳定的纳米分辨率；

　　

　　2、大面积全场曝光，无需拼接；

　　

　　3、自由度不受限制，不影响厚胶和表面翘曲；

　　

　　4、双工作模式；

　　

　　5、全息光刻模式：周期性纳米结构；

　　

　　6、掩模对准光刻模式：任何微米结构；

　　

　　7、简化的曝光工艺可实现一键式曝光；

　　

　　8、灵活的定制解决方案。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻机同类产品的优异输出强度，出色的光束均匀性：3%的可用孔径，更长的弧光灯使用寿命：高达30000次曝光，即时启动，无需超净室，内置净化系统可以使系统在大气环境中工作，无需主动冷却和外部冷却，绿色技术：高光能转换率（EVU仅为0.02%），节能省电；传统UV加工会存在以上问题，光刻操作几分钟即可完成，维护简单。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻机广泛应用于半导体光刻工艺、光波导、光栅、MEMS、二极管芯片、发光二极管（LED）芯片制造、显示面板LCD、光电器件、纳米压印和电子封装。它的使用须知如下：

　　

　　1、不要频繁开关汞灯；

　　

　　2、水银灯刚开机需要预热一段时间；

　　

　　3、检查氮气。CDA压力必须为0.6MPa，N2压力必须为0.4MPa。