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1300nm高掺杂EDF掺铒光纤
面议掺镱(Yb)单包层光纤 850nm 4.0/125um
面议UHNA超高数值孔径单模光纤 NA0.28
面议PM780-HP 通信保偏光纤(高抗辐照)
面议375X375um 匀化光纤连接器
面议50X50um 匀化光纤连接器
面议100X100um 匀化光纤连接器
面议400X400um 匀化光纤连接器
面议Cila 2.0 裸光纤抛光和检测系统 (光纤研磨抛光)
面议光学波导抛光和检测系统(光纤研磨抛光)
面议1.1-6.5um 中红外硫系玻璃光纤跳线光缆 (芯径 8um,包层 300um)
面议760 GHz DCM-PC(光纤光栅)
面议高OH含量熔融二氧化硅材料的卓纯度保证了在UV-VIS波长下的卓透明度,使光导ZLDUV光纤成为无限制应用的优选。ZLDUV纤维的特殊材料与现有的ZLUV级纤维相比,具有更好的耐晒性能。这种光纤类型的二氧化硅/二氧化硅结构在从传输到损伤阈值水平的许多参数中提供了高的光学性能。
物理属性 | |
可用纤芯直径 Ø: | 70-2200 um |
核心形状: | 圆形 |
纤维层的标准公差: | 纤芯 ± 2% 包层 ± 2% 缓冲层 ± 3% 套管 ± 5% |
操作温度: | 190 to +385°C (取决于选择的缓冲和护套材料) |
CCDR ( clad to core ratio 包芯比): | 1.05, 1.10和定制 |
验证试验: | 100kpsi用于(ETFE、丙烯酸酯、尼龙护套) 100或70 kpsi(用于聚酰亚胺护套) |
弯曲半径, mm | 瞬时:50 x玻璃直径,mm 长期:120 x玻璃直径,mm |
光学特性 | |
光谱衰减 | (见下图) |
工作波长范围: | 190-1200 nm |
NA (数值孔径): | 0.22作为标准其他应要求 |
NA 容差: | ± 0.02 |
化学特性 | |
芯材: | 熔融合成二氧化硅 |
芯材中OH含量: | 600...800 ppm |
反射包层材料: | 掺氟二氧化硅 |
典型ZLDUV光纤的光谱衰减