无掩膜直写光刻设备拥有跨尺度纳米级三维加工能力
时间:2024-12-07 阅读:161
电子/半导体器件
微/纳电机系统
自旋电子学
传感器
微流控
材料科学
生物实验室芯片
光子学
主要特点:
适用于大规模生产和工业级应用
从纳米级到十微米多种加工模式,实现更高的加工精度与速度
加工图案预览功能和对准误差补偿
加工面自动平整和自动聚焦,保证加工一致性
全自动化的可视控制系统与图形化编程语言的应用,显著提升设备调控的灵活性与自主性
更高的对准、拼接和套刻精度
长时稳定性控制系统,保证加工稳定性余一致性
更大的加工区域,适用不同尺寸基材,提供自动化样品吸盘夹具
跨尺度纳米级三维加工能力,魔技纳米深入生物医药、维纳光学、光电通信、新材料、防伪等多领域,结婚自研设备,摸索并形成面向多个行业应用的成熟的加工工艺。