实验设备：MSK-AFA-I流延涂覆机、ZKC-250真空样品贮存器、DZF-6020真空干燥箱

MSK-AFA-I流延涂覆机	ZKC-250真空样品储藏罐	DZF-6020真空干燥箱

图1实验所用设备图

实验材料：液态硅胶、铜箔
实验目的：使用流延涂覆机将液态硅胶均匀涂覆在铜箔表面，用真空干燥箱在90℃的环境下将薄膜烘干，而后使用数显千分尺测量烘干后薄膜的厚度和均匀性。
实验过程：
①原料混合：
首先，将液态硅胶原料按1:1的比例混合好，混合后的液态硅胶内充满气泡，将充满气泡的液态硅胶放入到ZKC-250真空样品贮存器中，对罐体抽真空使液体中的气泡排出，反复抽几次真空，使胶体中所有气泡全部排出，从而降低气泡对薄膜的影响。
②样品涂膜：
涂布前应开启真空泵将样品固定在真空吸盘上，然后调节刮刀顶端的机械千分尺，设置薄膜的涂覆厚度，本实验液态薄膜的涂覆厚度设置为50μm。将脱泡后的液态硅胶用胶管吸出，挤入涂布机的刮刀内，设置涂布行程和涂布速度，然后开启涂布机对铜箔进行涂膜，挤入硅胶和涂膜后的试样如图所示：

挤入硅胶的试样图	涂膜后的试样图

图2 挤入硅胶和涂膜后的试样图

③薄膜烘干测厚：
首先在制备薄膜前将烘箱温度设置为90℃，开启烘干箱，使温度加热至90℃待用，而后将涂覆后的薄膜平移（以防铜箔出现褶皱）至DZF-6020烘干箱中进行烘干，烘干时间设置为1小时。烘干后取出带有薄膜的铜箔，然后将薄膜从铜箔上撕下，待薄膜变形恢复后使用数显千分尺对薄膜厚度进行测量，测量结果如图3所示，不同位置的薄膜厚度绝大部分为0.112㎜、0.111㎜、0.112㎜。

取下的薄膜样品厚度图1	取下的薄膜样品厚度图2
取下的薄膜样品厚度图3	取下后的薄膜样品图

图3 从铜箔上取下的薄膜图

实验结论：通过对烘干后的薄膜进行厚度测试可知，整张薄膜绝大多数区域的厚度在0.111㎜-0.112㎜范伟内，可见使用AFA-I刮膜机所涂覆的液态硅胶薄膜厚度均匀，液态硅胶薄膜可使用刮膜机进行薄膜制备。
设备优势：
1、MSK-AFA-I自动涂布机广泛用于各种平板涂膜研究，例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。该机采用真空吸附方法来对基片进行固定，使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生，从而使得涂布更加均匀顺畅。制膜宽度可通过更换不通的制膜器进行改变，制膜厚度可通过制膜器进行调节。制膜长度通过控制刮刀的行程来控制，刮刀的行程可在10-290mm的范围内进行调节。设备体积小巧，适合在实验室中使用。
2、ZKC-250真空样品贮存器可以贮存各种样品，如生化试剂、药品、光学镜头、种子、精密元器件、文物等，防止其氧化、变质。对不宜真空保存的物体，通过变更进、出气口，可以充入各种惰性保护气体，以达到防止氧化、变质的作用。本机也可以用来对物体进行真空干燥，且快速、安全有效。
3、DZF-6020真空干燥箱（真空烘箱）专为干燥热敏性，易分解和易氧化物质而设计，能够向内部冲入惰性气体，特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥，也可用于普通环境下对一些材料进行干燥。