开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV

OTF-1200X-F3LV开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV

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具体成交价以合同协议为准
2016-04-12 10:31:04
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沈阳科晶自动化设备有限公司

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产品简介

开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV是由开启式单温区管式炉、机械泵、三通道浮子混气系统组成,可为CVD或扩散实验提供1-3种的混合气体,真空度可达10-2torr。

详细介绍

 

产品型号

  开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV

主要特点

  1层壳体,配有循环风冷系统,壳体温度<60℃。

  2内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高加热效率,同时延长使用寿命

  3PID控制器 ,可以设置30段升降温程序。

  4设有超温及断偶报警功能

  5已通CE认证。

技术参数

  1电源:AC 220V   50/60Hz  2.5KW

  2、石英管:外径Φ80mm,内径Φ75mm,长1000mm

  3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝

  4、加热区域:440mm

  5、恒温区域:150mm

  6工作温度:zui高1200连续工作1100

  7、zui大升降温速率:20/min

  8、控温精度:±1

  9、真空度:5.5×10-3torr(机械泵),10-4torr(分子泵)

  10、泄漏率:<5mtorr/min

  11、浮子流量计3个;10-100ml/min16-160ml/min25-250ml/min

  12、压力表:4

产品规格

  尺寸:管式炉550mm×380mm×520mm,混气系统600mm×600mm×597mm;重量:60kg

 

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