产品简介
该自动钙钛矿涂膜系统采用自动吸液注液方式，注液后在基片表面自动旋涂出一层薄膜，旋涂后移动基片至烤胶机表面进行薄膜烘干。液体可进行搅拌防止沉淀，如需加热可对液体进行加热操作。整个操作过程在11寸触摸屏上进行设置，操作直观方便。该设备适用于大专院校及科研实验室进行的钙钛矿薄膜及其他液体薄膜的研究，可根据客户各种要求进行设备定制。
详细介绍
产品简介
该自动钙钛矿涂膜系统采用自动吸液注液方式，注液后在基片表面自动旋涂出一层薄膜，旋涂后移动基片至烤胶机表面进行薄膜烘干。液体可进行搅拌防止沉淀，如需加热可对液体进行加热操作。整个操作过程在11寸触摸屏上进行设置，操作直观方便。该设备适用于大专院校及科研实验室进行的钙钛矿薄膜及其他液体薄膜的研究，可根据客户各种要求进行设备定制。
技术参数
产品名称 | VTC-110PAX高通量自动旋转涂膜系统 |
产品型号 | VTC-110PAX |
主要参数 | VGB-6手套箱参数：可开启式单面双工位手套箱 手套箱腔体 | 壳体材料：304 不锈钢
尺寸: 1200mm(L) x 780mm(W) x 900mm(H)
前窗设计为开启式，以便放入各种仪器 | 腔体环境 | 水含量: <1 ppm (20°C, 1 atm)
氧含量: <1 ppm (20°C, 1 atm) | 前级室 | 设计有两个前级室
大前级室尺寸：Φ360mm x 600mmL
小前级室尺寸：Φ150 mm x 300mm(L) | 工作气体 | 工作气体：N2、Ar、He 等惰性气体
控制气体：压缩空气或惰性气体
还原气体：工作气体和氢气（H2）的混合气。
如果净化系统只有除水功能的，还原气体与工作气体相同 | 气体净化系统 | 德国 BASF 除氧材料，美国 UOP 吸水材料，净化系统再生过程自动控制，自动除水除氧功能；可长期、持续维持气体纯度：水<1ppm，氧<1ppm。 | 压力控制系统 | 腔体气压可通过 PLC 触摸屏自动控制
控制精度为: ±1Pa
也可通过脚踏开关进行手动控制 | 过滤系统 | 进气和出气端都安装有过滤器
过滤精度为：0.3μm | 控制系统 | SIEMENS 彩色触摸屏（6 寸），PLC 控制系统，中英文双语可切换
水探头：采用美国 GE 品牌，0～1000ppm 触摸屏显示，精度 0.1 ppm
氧变送器：采用美国AII品牌，0～1000ppm触摸屏显示，精度0.1 ppm
压力传感仪：采用美国 setra 品牌，-2500～2500Pa 触摸屏显示，精度±1Pa | 手套 | 美国 NORTH 品牌丁基合成橡胶 | 照明系统 | 配置飞利浦品牌荧光灯管 | 仪器尺寸 | 2300mm(L) x 1500mm(W) x 1900mm(H) | 注意事项 | 手套箱内部气体循环时，必须保证循环系统管道通畅，不可堵塞
手套箱中不可通入腐蚀性气体
要定期对手套箱进行再生
手套箱的除氧速率要根据所通入的工作气体而定，采用 N2 的除氧要比通入 Ar 好
若手套箱内部放有腐蚀性气体（如 LiPF6 电解液），不使用时，必须把装液体的瓶子密封好 |
制膜系统参数 旋涂工位数量 | 4工位 | 旋涂机参数 | 1、腔体（材质）：聚丙烯 2、载样盘（吸盘）：聚丙烯吸盘Φ19mm 、Φ60mm 、φ100㎜各一个 3、运行方式：可储存 12 组程序；每组程序包含 6 个运行阶段 4、涂膜转速：20rpm-12500rpm 有效，速度分辨率1rpm/s 5、增减速率：每段增减速率设置范围： 20 rpm —15000 rpm/s 6、涂膜时间：每段时间范围：0-3000s 7、转速稳定性：±1% | 液体搅拌系统 | 配备四个可加热磁力搅拌泵 加热温度RT-100℃ 磁力搅拌速度：0-2000rpm | 注液系统 | 移液枪自动左右上下移动 水平移动有效行程：500mm行程 水平移动速度：1~1800mm/min(整数)。 垂直上下移动有效行程：250mm； 上下提拉移动速度：1~200mm/min(整数) 配备四个高精度自动注液器 注液精度：±1μl 增量：1μl | 薄膜烘干系统 | 1、加热功率：3500W 2、加热温度：≤500℃ 3、控温精度：±1℃ 4、加热板：350mm×240mm |
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