orc半导体用露光装置PPS-8200/8300的用途和特长是什么
时间:2023-08-21 阅读:400
用途:
支持多种应用程序
支持WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸。
特长:
宽带曝光(与配方联动的自动切换ghi线gh线,i线)。
搭载可变NA功能(0.16和0.1的可变)。
最多8个字段的条形图设计格式。
由抗蚀气体和周边环境化学保护的光学系统。
规格:
型式 PPS-8200/8300 ウェーハサイズ 6/8/12インチ 解像力 2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚) NA(开口数) 0.16、0.1可変 缩小比 1:1 Fieldサイズ 52mm × 33mm 露光波长 ghi-Line gh-line i-line(レシピ连动) レチクルサイズ 6inch 重ね合せ精度 ≦0.5 µm(|Ave|+3σ) 装置サイズ/重量 (W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg 主要オプション バックサイドアライメントシステム
ウェーハ周辺露光システム
ウェーハ周辺非露光システム
薄ウェーハ搬送システム
GEM通信対応
インライン対応