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orc半导体用露光装置PPS-8200/8300的用途和特长是什么

时间:2023-08-21      阅读:400

用途:

支持多种应用程序


支持WL-CSP、IGBT、CIS等的光刻6/8/12英寸。

特长:

  1. 宽带曝光(与配方联动的自动切换ghi线gh线,i线)。

  2. 搭载可变NA功能(0.16和0.1的可变)。

  3. 最多8个字段的条形图设计格式。

  4. 由抗蚀气体和周边环境化学保护的光学系统。

    规格:


    型式PPS-8200/8300
    ウェーハサイズ6/8/12インチ
    解像力2.0 µmL/S(2.0 µm レジスト厚)
    NA(开口数)0.16、0.1可変
    缩小比1:1
    Fieldサイズ52mm × 33mm
    露光波长ghi-Line gh-line i-line(レシピ连动)
    レチクルサイズ6inch
    重ね合せ精度≦0.5 µm(|Ave|+3σ)
    装置サイズ/重量(W)2,260×(D)3,460×(H)2,500mm / 5,500kg
    主要オプションバックサイドアライメントシステム
    ウェーハ周辺露光システム
    ウェーハ周辺非露光システム
    薄ウェーハ搬送システム
    GEM通信対応
    インライン対応


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