常压等离子体设备主要有三类：电晕放电等离子体设备、微波等离子体设备、多瓦等离子体设备。

1、电晕放电等离子装置

电晕放电等离子体装置是一种基于使用高频电源产生等离子体的装置。通过在电极之间施加高频电压来释放等离子体，并通过与反应气体的化学反应来对表面进行改性和清洁。一般来说，它的特点是温度低，对树脂和薄膜等聚合物材料有效。

2、微波等离子体装置

微波等离子体装置是利用微波产生等离子体的装置。通过注入反应气体并施加高频电场，反应气体吸收微波并产生等离子体。它可以产生高温等离子体，用于金属、陶瓷等的高分辨率表面改性和薄膜形成。

3.Dova等离子装置

Dova Plasma 装置是一种带有水平排列的针和板作为电极的装置。板上有反应气体流过的小孔。通过在针和板之间施加高电压，针尖处会产生电晕放电，从而产生等离子体。它可以产生低温等离子体，可应用于细胞和生物组织的处理。