SHINKO SEIKI神港--电弧丝式离子镀装置（AF-IP装置）

这是一种新型离子镀设备，利用PVD实现了过去只能利用CVD才能实现商业化的膜类型（厚氧化膜、碳化膜等） 。

“电弧灯丝型离子镀装置”通过蒸发粒子与蒸发源上的热电子碰撞，有效地使蒸发粒子离子化。此外，
通过引入的气体与电离的蒸发颗粒之间的反应，
可以形成各种致密且高粘附性的反应膜(氮化物膜、氧化物膜、碳化物膜、碳氮化物膜) 。

现在可以形成厚的氧化膜，这对于传统的电弧放电离子镀设备来说是困难的。可以使用电弧丝型离子镀设备形成的新型PVD薄膜预计将用于
精密模具和半导体制造设备零件等许多应用。

对应膜种类
氧化膜 氧化钇 (Y2O3) *新开发膜
　　　　氧化铝 (Al2O3) *新开发膜
碳化物膜 SiC *新开发膜
氮化物膜 TiN
　　　　CrN
其他各种金属及反应膜