支持半导体制造的超纯水是什么？

清洗工序约占半导体制造工序的30%，采用“超纯水”（UPW），最大限度地去除杂质。

超纯水是通过最大限度地去除天然水中的杂质而得到净化的水。自来水中含有溶解的各种物质，包括钙、镁等矿物质以及氯等消毒剂。这些杂质会严重损害半导体制造等精密工艺中的产品质量。

因此，在半导体制造等要求高纯度的领域， 去除有机物、微粒、溶解气体等，使离子更接近氢离子（H+）和氢氧根离子（OH-）。被使用。

半导体制造涉及一系列复杂的工艺，需要极其先进的技术。超纯水是该制造过程的重要组成部分。

在半导体制造中，复杂的电路图案形成在称为硅晶片的薄板上。在此过程中，会进行各种处理，例如切割晶圆和注入杂质。在这些处理之后，几乎总是有一个清洁步骤。

该清洗过程使用超纯水。超纯水是最大限度去除杂质的极其纯净的水。超纯水之所以如此重要，是因为半导体电路极其微小，即使是最轻微的杂质也会对产品性能产生重大影响。

超纯水纯度

超纯水的纯度高，与自来水相比差异明显。经过一些研究，我发现了一些有趣的例子，所以我想与大家分享。

例如，考虑 50 米游泳池的杂质含量。

• 自来水：2至数桶

• 纯净水：1杯

• 超纯水：1勺耳朵清洁水

这是超纯水纯度高的一个例子。这很容易想象。

如何制备超纯水

为了生产超纯水，有效去除水中所含的以下四种杂质非常重要。

• 无机物质：包括源自天然矿物质的物质，如钙离子、镁离子（硬度成分）、氯离子和重金属离子，以及人工混合到水中的物质。

• 有机物质：种类繁多，包括植物来源的木质素和腐植酸，生物来源的蛋白质和核酸，以及杀虫剂和合成洗涤剂等人工有机化合物。

• 细颗粒：含有肉眼看不见的细小颗粒，例如从土壤中浸出的颗粒以及水管腐蚀引起的铁锈。

• 微生物：包括生活在水中的各种微生物，例如细菌、病毒和藻类。

这些杂质各自具有不同的性质，需要选择最佳的处理方法来去除它们。目前的纯水设备和超纯水设备通过结合先进的分离技术去除这些杂质来制造高纯水。