近年来，随着仪器行业的不断发展，CVD管式炉在市场上得到了快速地发展。由于其突出的表现，受到了广泛用户的青睐。目前本产品可以广泛地应用于纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域，下面我们就来具体的了解一下这款仪器！

　　CVD管式炉与普通设备完整不同。此外，由于直接着火，任何走漏都可能招致爆炸或火灾，这也是非消防设备无法比较的。 加热式管式炉的炉管壁温为400-650℃，加热反响式管式炉（氢转化炉）的壁温常常在850-1000℃的范围内。高温炉圈接受低工作压力，如蒸馏炉，普通1-3mpa，高压加氢炉，高达18-20mpa。

 CVD管式炉主要由高温腔体、石英管、石英支架、气路系统、分子泵机组、自动化控制系统、冷却系统等组成。

　　1、沉底材料可采用铜箔、石墨等；

　　2、生长腔体采用进口高纯石英管，配石英支架、为石墨烯等材料的生长提供洁净环境；

　　3、炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维，不易掉粉、寿命长且保温性能好。加热丝采用掺钼铁铬铝合金加热丝，温场均匀，能耗低；

　　4、密封法兰均采用不锈钢材质，配水冷套，可连续长时间工作；

　　5、气路系统采用两路质量流量计(可拓展多路)，配预混系统；

　　6、气体种类： He/Ar、C2H2、NH3、N2， H2、PH3、GeH4、B2H6；

　　7、温度、气体、真空、冷却水等通过PLC控制，通过PC实时控制和显示相关的实验参数，自动保存实验参数，也可采用手动控制；

　　8、系统采用集成化设计，控制系统、混气罐、质量流量计等均内置在箱体内部，占地面积小。整体安装四个可移动轮子，方便整体移动。

　　好了！关于CVD管式炉结构特点的讲解，今天我们就说到这里，希望您看完有所收获，后期我们也会陆续更新。