匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度。

   该设备主要用于晶片涂光刻胶，有自动、手动和半自动三种工作方式。送片盒中的晶片，自动送到承片台上，用真空吸附，在主轴电机的带动下旋转，转速100—9900转/分（±10转/分），起动加速度可调。每道程序的持续时间，转速、加速度、烘烤温度、烘烤时间、预烘时间等工艺参数均可通过编程控制。匀胶机有一个或多个滴胶系统，可涂不同品种的光刻胶。滴胶的方式有晶片静止或旋转滴胶。随着晶片尺寸的增大，出现了多点滴胶或胶口移动式滴胶。胶膜厚度一般在500—1000nm，同一晶片和片与片间的误差小于±5nm。滴胶泵有波纹管式和薄膜式两种，并有流量计进行恒量控制。对涂过胶的晶片有上下刮边功能，去掉晶片正反面多余的光刻胶。烘烤工位，有隧道式远红外加热，微波快速加热以及电阻加热的热板炉等。涂胶后的晶片要按一定的升温速率进行烘干。烘烤过程在密封的炉子中进行，通过抽真空排除挥发出来的有害物质。前烘结束后，将晶片送入收片盒内。主轴转速的稳定性和重复性是决定胶膜厚度均匀性和一致性的关键，起动加速度的大小是决定是否能将不同粘稠度的光刻胶甩开并使胶均匀的决定因素。近年来的发展趋势是在自动工作方式的匀胶机中加入预涂增粘剂（HMDS）的冷板和热板工艺模块，以增强光刻胶和晶片的附着力。

   杭州嘉维创新科技有限公司是多家先进仪器制造商的合作伙伴。代理销售京都电子KEM、纺吉莱博Fungilab、格

哈特Gerhardt、东京理化EYELA、威伊WELCH、日立、isco、CEM、biotek、布鲁克海文Brookhaven、布劳恩

MBRAUN、雅马拓yamato、赛默飞世尔Thermo等公司的全自动电位滴定仪、旋转粘度计、定氮仪、脂肪仪、纤维素

测定仪、溶剂纯化系统、手套箱、平行蒸发仪、真空浓缩仪、微通道反应器、微波合成仪、流动反应器、平行合

成仪、反应量热仪、低温反应器、低温冷却液循环泵、冷水机、旋转蒸发仪、分子蒸馏仪、冷冻干燥机、喷雾干

燥机、快速制备色谱仪、质构仪、粒度仪、酶标仪、真空泵等设备，并提供技术售后服务。