iCAP Qc ICPMS 测定高纯氧化钼中 Cd 等痕量杂质
时间:2019-04-12 阅读:432
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赛默飞色谱及质谱 -
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432次钼具有耐高温,低膨胀系数,在合金中添加钼能起到耐热和耐腐蚀作用,并提高合金的强度,用于制造航空和航天的各种高温部件。尤其对于含高钼的镍基合金,除了主合金成份外,对于一些杂质元素的控制将严重影响合金的性能。氧化钼和钼酸盐是化学和石油工业中的优良催化剂,为保证催化剂的性能也需要对重金属加以严格的控制。由于镉的所有同位素都会受到氧化钼的一价多原子离子干扰,本方法通过 CCT 氧气反应将氧化钼转化为多氧化钼从而消除了对镉的干扰。
方法提要本实验将高纯氧化钼溶解于稀氨水中,采用赛默飞 iCAP Qc ICPMS,分别采用高流量 He 气碰撞和 CCT 氧气反应模式测定,通过 Qtegra 自动调谐,并优化碰撞反应气体流量消除 Mo 基体对镉测定的干扰。
CAP Q ICPMS 具备一键式仪器设置功能,设置后可自动运行个性化 TUNE 程序,并完成 Performance Report。一键仪器设置和直观分析工作流程,为操作人员简化了实验步骤并避免出错,同时自动和记录监控仪器状态,确保了操作的一致性和结果的重现性。