使用 NexION 5000 ICP-MS 对稀硝酸中的超痕量非金属元素进行测定
时间：2021-05-17 阅读：226
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珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司 -
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超纯或半导体级氨（HNO3）用于硅和各种重金属的湿法刻蚀。也常与其他材料混合形成抛光剂，用于板互连的金属部件上。由于这些原因，为满足生产要求，半导体行业对硝酸溶液中包括非金属元素在内的各种杂质的检测要求越来越高。由于等离子体气体和样品基质存在复杂的光谱干扰，使用传统的 ICP-MS 对稀硝酸中的非金属元素如砷（As）、溴（Br）、氯（Cl）、碘（I），磷（P）、硫（S）、硒（Se）和硅（Si）进行低 ppt 定量具有很大挑战性。
这个问题使用如下配置的 ICPMS 很容易解决：此系统不仅在离子进入碰撞反应池前对其进行质量过滤，而且还可控制其在池中的反应，这是只有四级杆反应池才有的功能。这确保没有副反应产生副产物，实现可预测和可重复的干扰被消除，且无论样品基质如何。使用这种仪器分析非金属元素往往可得出优秀的背景等效浓度和检出限。
这篇应用简述中，用 NexION® 5000 多重四级杆 ICP-MS测出稀硝酸中非金属杂质的检出限（DL）和背景等效浓度（BEC）。分析使用单个分析方法进行，冷或热等离子体条件依据分析物决定。