反射率测量的设计和制造
反射率测量是在原仪器上开发出的换代产品，是镜片反射率测定仪的新机型。薄镜片也不受背面反射光的影响，能实现高速、高精度的分光测定。
反射率测量是计量领域中的一个重要研究方向，它有许多具体的测量方法，如何选择合适的方法，目前尚无这方面的技术评述。从结构上，反射率测量系统由光源、测量原理、测量主体及探测器等4部分组成，其中测量主体是用来实现测量原理的光路装置，它由待测样品和其它辅助光学镜片构成。反射率测量根据反射率测量原理可分为两大类:第1类是(单)多次反射法，其中多次反射法可以看成是在单次反射法的基础上，利用实验技巧，改进测量主体，增加待测样品上的光束反射次数的测量方法。
反射率测量基于谐振腔特性的测量方法，这些特性分别是谐振腔的精细度参数、损耗猝灭特性和脉冲能量衰荡特性，分析了各种测量技术的原理及其优缺点，介绍了国内外反射率测量技术的发展现状及其目前技术水平。初的光源是由氢灯、氚灯、钨丝灯、卤钨灯等通过色散器件获得的单色光，这类光源的光谱调谐范围宽，但其单色亮度低、方向性差，限制了反射次数。当激光出现后，由于其单色亮度高、方向性好，推动了多次反射法的运用与发展。因为反射率测量在谐振腔内，能够很好地实现光束在待测样品上更多次数的反射，所以，基于谐振腔的多次反射技术(光延迟线法)逐渐被用于高精度反射率测量方法中。
反射率测量促进了谐振腔在反射率测量技术中的应用。谐振腔的特性参数有精细度参数、损耗猝灭特性和脉冲能量衰荡特性等等。根据特性参数的不同，这类反射率测量技术具体分为腔内脉冲能量衰荡法、谐振腔损耗比较法以及利用谐振腔精细度的测量法。反射率测量是光谱测量的基本手段，实现反射光谱测量通常需要光谱仪、光源、光纤、测量支架、标准参比样品和测量软件等。对于不同种类的样品，为了获取佳的光谱数据，反射这种基本模式又会演化为更多的形式。
