光刻胶的定义及其成分

光刻胶的定义:
     光刻胶(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。

作用：
      a、将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中；
      b、在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。

光刻胶的主要成分

树脂：光刻胶树脂是一种惰性的聚合物基质，是用来将其它材料聚合在一起的粘合剂。光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。

感光剂：感光剂是光刻胶的核心部分，它对光形式的辐射能，特别在紫外区会发生反应。曝光时间、光源所发射光线的强度都根据感光剂的特性选择决定的。

溶剂：光刻胶中容量zui大的成分，感光剂和添加剂都是固态物质，为了方便均匀的涂覆，要将它们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，且使之具有良好的流动性，可以通过旋转方式涂布在wafer表面。

添加剂：用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂。