简单介绍下成像滤光片镀膜前的清洗方法
成像滤光片是一种表现颜色的光学滤光片，它可以选择欲通过的小范围波段光波，而反射掉其他不希望通过的波段。成像滤光片通常安装在光源的前方，使人眼可以接收到饱和的某个颜色光线。成像滤光片是什么？简单来说成像滤光片是一种屏蔽可见光，仅透红外光的光学级材料。
成像滤光片从材料上划分，有光学玻璃镀膜的，也有有色玻璃制成的，也有塑料成像滤光片。成像滤光片是塑料或玻璃片再加入特种染料做成的。随着科技的发展，半导体器件的生产对清洁度的要求越来越高。也不断有复杂的新洗净系统和设备投入使用。在光学仪器、精密机械以及电子机械领域也越来越多地需要精密工业清洗。无论是半导体薄膜的生长还是基于半导体薄膜的器件制备，衬底的清洗和处理是*的一个环节。
在清洗行业中，根据清洗时使用的清洗媒体（清洗剂）种类，通常把清洗工艺分为两大类，即湿式清洗和干式清洗。对真空镀膜行业来说，根据镀膜基底表面所去除物的种类，对镀膜前基底的清洗方法一般分为物理清洗和化学清洗，物理清洗即去除基底表面物理附着物，如粉尘颗粒;化学清洗是去除基底表面化学附着物，如油迹。而不同的基底在真空镀膜前的清洗方法也各有差异，成像滤光片镀膜前清洗主要包括如下几种。
1、擦拭清洗
擦拭清洗方法是兼有机械摩擦和化学作用的双重效果，使除污效果更为有效。成像滤光片等光学元件在转入镀膜加工工序前，其基底都经过研磨抛光，达到一定的光洁要求，光学元件表面残留有各类油污，存在粘附性强的附着物，同时还残留有部分研磨膏、抛光砂等颗粒物。为达到良好的清洗效果，满足成像滤光片的镀膜需求，成像滤光片基底应*行擦拭清洗，以清除基底表面油污及研磨膏、抛光砂等附着物。
2、超声波清洗
超声波清洗的主要作用机理是超声空化作用、超声空化二阶效应产生的微声流的洗刷作用，以及超声空化在固体和液体界面所产生的高速微射流的冲击作用，促进洗液的化学物理反应效果，从而除去污染物的一种有效的清洗方法，是一种高速、高质量、易实现自动化的清洗技术。
3、离子束清洗
成像滤光片镀膜前经过一系列的清洗过程之后，在基片放入真空室的过程中以及在真空室抽取真空的过程中，装入镀膜设备真空室以及进行蒸镀前，基片均有可能被二次污染，从而影响成像滤光片蒸镀效果和薄膜特性，通常采用离子束清洗技术，对基片进行的后一道处理，以消除二次污染，保证基片在镀膜前的真正清洁。离子束清洗技术的清洁机理是:吸附或黏附在成像滤光片上的污物在高能离子束的轰击下脱离基片;或通过高热能的氧离子氧化污物分子，使它易于被离子碰撞而脱离基片。
